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- ICP-RIE装置 [RIE-101iPH]によるシリコンフォトニクスデバイスの開発（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-615：ICP-RIE装置 [RIE-101iPH]
- ファイル数：
- 8
- ファイルサイズ：
- 108.78KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0001
- 課題名：
- シリコンフォトニクスデバイスの開発
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 14
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- スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #2]によるイオニクス型人工知能デバイスの研究（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-641：スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #2]
- ファイル数：
- 4
- ファイルサイズ：
- 48.89KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5072
- 課題名：
- イオニクス型人工知能デバイスの研究
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 11
- ダウンロード数：
- 0
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- ICP-RIE装置 [RIE-101iPH]による高温超伝導線材の実用化のための応用基盤研究（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-615：ICP-RIE装置 [RIE-101iPH]
- ファイル数：
- 15
- ファイルサイズ：
- 241.91KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5039
- 課題名：
- ⾼温超伝導線材の実⽤化のための応⽤基盤研究
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 8
- ダウンロード数：
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- 電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]による電子・レーザービーム描画を用いた微細デバイス加工技術開発（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-635：電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
- ファイル数：
- 8
- ファイルサイズ：
- 124.81KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0006
- 課題名：
- 電子・レーザービーム描画を用いた微細デバイス加工技術開発
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 7
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- 水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2]によるイオニクス型人工知能デバイスの研究（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-638：水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2]
- ファイル数：
- 23
- ファイルサイズ：
- 274.94KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5072
- 課題名：
- イオニクス型人工知能デバイスの研究
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 10
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- スパッタ装置 [JSP-8000]によるダイヤモンドデバイスの研究_23NM5196
- 装置・プロセス：
-
NM-608：スパッタ装置 [JSP-8000]
- ファイル数：
- 3
- ファイルサイズ：
- 48.4KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5196
- 課題名：
- ダイヤモンドデバイスの研究
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 10
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- 電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]による光メタ表面に関する研究
- 装置・プロセス：
-
NM-635：電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
- ファイル数：
- 5
- ファイルサイズ：
- 92.3KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5163
- 課題名：
- 光メタ表面に関する研究
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 17
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- FE-SEM+EDX [SU8230]による半導体ナノ構造の形成制御と機能化_SEM（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-649：FE-SEM+EDX [SU8230]
- ファイル数：
- 348
- ファイルサイズ：
- 514.12MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5171
- 課題名：
- 半導体ナノ構造の形成制御と機能化
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 10
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- 電子銃型蒸着装置 [RDEB-1206K]によるダイヤモンドデバイスの研究_23NM5196
- 装置・プロセス：
-
NM-610：電子銃型蒸着装置 [RDEB-1206K]
- ファイル数：
- 4
- ファイルサイズ：
- 44.42KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5196
- 課題名：
- ダイヤモンドデバイスの研究
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 9
- ダウンロード数：
- 0
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- 電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]による絶縁膜形成技術の研究（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-635：電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
- ファイル数：
- 9
- ファイルサイズ：
- 183.76KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5089
- 課題名：
- 絶縁膜形成技術の研究
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 9
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- 0
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Level5：Confidential
- 電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]によるダイヤモンドデバイスの研究_23NM5196
- 装置・プロセス：
-
NM-635：電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
- ファイル数：
- 14
- ファイルサイズ：
- 276.39KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5196
- 課題名：
- ダイヤモンドデバイスの研究
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 6
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- 0
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- ICP-RIE装置 [CE300I]によるスピントロニクス型人工知能デバイスの研究（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-645：ICP-RIE装置 [CE300I]
- ファイル数：
- 6
- ファイルサイズ：
- 96.39KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5518
- 課題名：
- スピントロニクス型人工知能デバイスの研究
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 4
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- FE-SEM+EDX [S-4800]によるナノ相分離材料の組織分析_SEM
- 装置・プロセス：
-
NM-647：FE-SEM+EDX [S-4800]
- ファイル数：
- 851
- ファイルサイズ：
- 339.17MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5363
- 課題名：
- ナノ相分離材料の組織分析
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 7
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Level1：Open
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Level5：Confidential
- 水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1]による半導体ナノ構造の形成制御と機能化（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-605：水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1]
- ファイル数：
- 5
- ファイルサイズ：
- 59.97KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5171
- 課題名：
- 半導体ナノ構造の形成制御と機能化
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 3
- ダウンロード数：
- 0
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Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- ICP-RIE装置 [RIE-101iPH]による光デバイスの作製
- 装置・プロセス：
-
NM-615：ICP-RIE装置 [RIE-101iPH]
- ファイル数：
- 9
- ファイルサイズ：
- 144.61KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0047
- 課題名：
- 光デバイスの作製
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 1
- ダウンロード数：
- 0
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Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P]による半導体ナノ構造の形成制御と機能化（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-604：マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P]
- ファイル数：
- 6
- ファイルサイズ：
- 119.1KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5171
- 課題名：
- 半導体ナノ構造の形成制御と機能化
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 2
- ダウンロード数：
- 0
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Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL]による半導体量子構造を用いた電流注入型光源デバイス作製
- 装置・プロセス：
-
NM-633：SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL]
- ファイル数：
- 3
- ファイルサイズ：
- 44.05KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0164
- 課題名：
- 半導体量子構造を用いた電流注入型光源デバイス作製
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 4
- ダウンロード数：
- 0
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ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 原子層エッチング装置 [PlasmaPro 100 ALE]によるGaNトポロジカル面発光レーザー実現に向けたデバイスプロセスの開発（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-618：原子層エッチング装置 [PlasmaPro 100 ALE]
- ファイル数：
- 3
- ファイルサイズ：
- 48KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5484
- 課題名：
- GaNトポロジカル面発光レーザー実現に向けたデバイスプロセスの開発
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 6
- ダウンロード数：
- 0
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Level4：Restricted
Level5：Confidential
- Research on Single Crystal Growth of Oxides and Fluorides using Tabletop SEM+EDX [TM3000] in SEM mode(FY2023)
- 装置・プロセス：
-
NM-650：卓上電子顕微鏡 [TM3000]
- ファイル数：
- 1911
- ファイルサイズ：
- 1.02GB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5337
- 課題名：
- Single Crystal Growth of Oxides and Fluorides
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 3
- ダウンロード数：
- 0
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Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 卓上電子顕微鏡 [TM3000]による熱電材料の開発（1）
- 装置・プロセス：
-
NM-650：卓上電子顕微鏡 [TM3000]
- ファイル数：
- 38
- ファイルサイズ：
- 5.42MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5114
- 課題名：
- 熱電材料の開発（１）
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 2
- ダウンロード数：
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ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential