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- マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P]によるGaN半導体の低抵抗オーム性電極の作製
- 装置・プロセス：
-
NM-604：マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P]
- ファイル数：
- 6
- ファイルサイズ：
- 89.34KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5067
- 課題名：
- n型、p型GaN半導体トランジスタにおける低接触抵抗オーム性電極の作製
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
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- 3
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- ICP-RIE装置 [RIE-101iPH]による可視光位相変調のためのSiNメタ原子形成（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-615：ICP-RIE装置 [RIE-101iPH]
- ファイル数：
- 46
- ファイルサイズ：
- 748.44KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0026
- 課題名：
- 可視光位相変調のためのSiNメタ原子形成
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 6
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- 卓上電子顕微鏡 [TM3000]によるアンモニア分解用触媒の探索_SEM（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-650：卓上電子顕微鏡 [TM3000]
- ファイル数：
- 25
- ファイルサイズ：
- 4.33MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5382
- 課題名：
- アンモニア分解用触媒の探索
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 3
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- 水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2]による電子・レーザービーム描画を用いた微細デバイス加工技術開発（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-638：水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2]
- ファイル数：
- 6
- ファイルサイズ：
- 63.97KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0006
- 課題名：
- 電子・レーザービーム描画を用いた微細デバイス加工技術開発
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 9
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- FE-SEM+EDX [S-4800]による嗅覚センサの研究開発_SEM
- 装置・プロセス：
-
NM-647：FE-SEM+EDX [S-4800]
- ファイル数：
- 8
- ファイルサイズ：
- 15.43MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5357
- 課題名：
- 嗅覚センサの研究開発
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 5
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- 水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2]による磁気機能デバイスの開発（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-638：水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2]
- ファイル数：
- 3
- ファイルサイズ：
- 41.98KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5316
- 課題名：
- 磁気機能デバイスの開発
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 3
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- 水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1]による人工ナノ構造を用いた光制御の研究（2023年度）
- 装置・プロセス：
- ファイル数：
- 8
- ファイルサイズ：
- 102.5KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0076
- 課題名：
- 人工ナノ構造を用いた光制御の研究
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 6
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- 電子銃型蒸着装置 [RDEB-1206K]を用いたナノ薄膜の電子線描画パターニングによるプラズモンナノ共振器の作製（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-610：電子銃型蒸着装置 [RDEB-1206K]
- ファイル数：
- 59
- ファイルサイズ：
- 795.01KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5062
- 課題名：
- ナノ薄膜の電子線描画パターニングによるプラズモンナノ共振器の作製
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 7
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- 水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2]によるCVD法で合成した遷移金属ダイカルコゲナイドの特性評価
- 装置・プロセス：
-
NM-638：水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2]
- ファイル数：
- 18
- ファイルサイズ：
- 192.75KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5158
- 課題名：
- CVD法で合成した遷移金属ダイカルコゲナイドの特性評価
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 3
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- 電子ビーム描画装置 [ELS-F125]による二次元材料を用いたアンチアンバイポーラトランジスタの作製と論理演算素子への応用（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-601：電子ビーム描画装置 [ELS-F125]
- ファイル数：
- 12
- ファイルサイズ：
- 245.55KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5255
- 課題名：
- 二次元材料を用いたアンチアンバイポーラトランジスタの作製と論理演算素子への応用
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 1
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- 電子ビーム描画装置 [ELS-F125]を用いたナノ薄膜の電子線描画パターニングによるプラズモンナノ共振器の作製（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-601：電子ビーム描画装置 [ELS-F125]
- ファイル数：
- 87
- ファイルサイズ：
- 1.48MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5062
- 課題名：
- ナノ薄膜の電子線描画パターニングによるプラズモンナノ共振器の作製
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 5
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- 電子銃型蒸着装置 [MB-501010]によるCVD法で合成した遷移金属ダイカルコゲナイドの特性評価
- 装置・プロセス：
-
NM-642：電子銃型蒸着装置 [MB-501010]
- ファイル数：
- 2
- ファイルサイズ：
- 22.39KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5158
- 課題名：
- CVD法で合成した遷移金属ダイカルコゲナイドの特性評価
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 3
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- FE-SEM+EDX [SU8000]による熱電材料の開発（1）_SEM
- 装置・プロセス：
-
NM-648：FE-SEM+EDX [SU8000]
- ファイル数：
- 697
- ファイルサイズ：
- 263.27MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5114
- 課題名：
- 熱電材料の開発（１）
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
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- 3
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- Research on Haptic Human-Machine Interface Based on Liquid-Mediated Self-Assembly using RTA [RTP-6 #1]
- 装置・プロセス：
-
NM-646：赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #1]
- ファイル数：
- 27
- ファイルサイズ：
- 378.49KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5351
- 課題名：
- Haptic Human-Machine Interface Based on Liquid-Mediated Self-Assembly
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
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- 4
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- CCP-RIE装置 [RIE-200NL]によるIII-V族化合物半導体パルス幅可変レーザーの開発（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-614：CCP-RIE装置 [RIE-200NL]
- ファイル数：
- 12
- ファイルサイズ：
- 191.75KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0062
- 課題名：
- III-V族化合物半導体パルス幅可変レーザーの開発
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 2
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- Research on Thermal management of GaN devices using EB Lithography [ELS-F125]_23NM5184
- 装置・プロセス：
-
NM-601：電子ビーム描画装置 [ELS-F125]
- ファイル数：
- 5
- ファイルサイズ：
- 93.29KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5184
- 課題名：
- Thermal management of GaN devices
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 3
- ダウンロード数：
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- Research on Thermal management of GaN devices using ALE [PlasmaPro 100 ALE]_23NM5184
- 装置・プロセス：
-
NM-618：原子層エッチング装置 [PlasmaPro 100 ALE]
- ファイル数：
- 33
- ファイルサイズ：
- 532.49KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5184
- 課題名：
- Thermal management of GaN devices
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 1
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- 水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1]によるエッジAIの省エネルギー性を向上させるナノエレクトロニクス新材料とそのデバイスプロセス開発
- 装置・プロセス：
-
NM-605：水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1]
- ファイル数：
- 12
- ファイルサイズ：
- 129.13KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0059
- 課題名：
- エッジAIの省エネルギー性を向上させるナノエレクトロニクス新材料とそのデバイスプロセス開発
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
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- 1
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- レーザー描画装置 [DWL66+]による電子ビームリソグラフィー装置を用いたGaN系材料の微細加工評価
- 装置・プロセス：
-
NM-603：レーザー描画装置 [DWL66+]
- ファイル数：
- 9
- ファイルサイズ：
- 207.3KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5066
- 課題名：
- 電子ビームリソグラフィー装置を用いたGaN系材料の微細加工評価
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 5
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- 電子銃型蒸着装置 [MB-501010]による絶縁膜形成技術の研究（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-642：電子銃型蒸着装置 [MB-501010]
- ファイル数：
- 9
- ファイルサイズ：
- 132.71KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5089
- 課題名：
- 絶縁膜形成技術の研究
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.6.4
- ページビュー：
- 1
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