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水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1]によるダイヤモンドデバイスの研究_23NM5196
装置・プロセス:
NM-605:水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1]
ファイル数:
11
ファイルサイズ:
126.19KB
課題番号:
JPMXP1223NM5196
課題名:
ダイヤモンドデバイスの研究
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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6
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FE-SEM+EDX [SU8230]による熱電材料の開発(1)_EDX
装置・プロセス:
NM-649:FE-SEM+EDX [SU8230]
ファイル数:
1677
ファイルサイズ:
513.54MB
課題番号:
JPMXP1223NM5114
課題名:
熱電材料の開発(1)
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
ページビュー:
3
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0
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thumbnail_6090da24-8e8d-4377-8f0d-169fcebf64ca
スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #3]による水素透過計測のための試料表面処理に関する研究(2023年度)
装置・プロセス:
NM-607:スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #3]
ファイル数:
9
ファイルサイズ:
145.66KB
課題番号:
JPMXP1223NM5219
課題名:
水素透過計測のための試料表面処理に関する研究
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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0
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FE-SEM+EDX [S-4800]によるスマートポリマーの構造解析および生化学的評価(2023年度)
装置・プロセス:
NM-647:FE-SEM+EDX [S-4800]
ファイル数:
187
ファイルサイズ:
459.39MB
課題番号:
JPMXP1223NM5298
課題名:
スマートポリマーの構造解析および生化学的評価
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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3
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thumbnail_60078110-753c-484a-b6b8-1fc0f5a98ab5
固体イオニクス新材料・新機能_23NM5065_SU8230_SEM
装置・プロセス:
NM-649:FE-SEM+EDX [SU8230]
ファイル数:
85
ファイルサイズ:
105.9MB
課題番号:
JPMXP1223NM5065
課題名:
固体イオニクスに基づく新材料・新機能の創製
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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1
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thumbnail_5dbdc80f-f5b7-4161-90f7-948b2dd00dbd
電子銃型蒸着装置 [ADS-E86]による量子デバイス応用を目指した薄膜評価とナノ構造作製(2023年度)
装置・プロセス:
NM-609:電子銃型蒸着装置 [ADS-E86]
ファイル数:
26
ファイルサイズ:
332.48KB
課題番号:
JPMXP1223NM5159
課題名:
量子デバイス応用を目指した薄膜評価とナノ構造作製
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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1
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CCP-RIE装置 [RIE-200NL]によるダイヤモンドデバイスの研究_23NM5214
装置・プロセス:
NM-614:CCP-RIE装置 [RIE-200NL]
ファイル数:
3
ファイルサイズ:
47.79KB
課題番号:
JPMXP1223NM5214
課題名:
ダイヤモンドデバイスの研究
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #1]によるワイドバンドギャップ半導体の微細構造形成・デバイス応用
装置・プロセス:
NM-640:スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #1]
ファイル数:
2
ファイルサイズ:
24.38KB
課題番号:
JPMXP1223NM5073
課題名:
ワイドバンドギャップ半導体の微細構造形成・デバイス応用
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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1
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Research on Ultra-High Surface Area Carbon Materials Design for Energy Storage using FE-SEM+EDX [SU8000] in EDX mode(FY2023)
装置・プロセス:
NM-648:FE-SEM+EDX [SU8000]
ファイル数:
33
ファイルサイズ:
3.54MB
課題番号:
JPMXP1223NM5195
課題名:
Ultra-High Surface Area Carbon Materials Design for Energy Storage
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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thumbnail_5b8acfdc-3198-4144-abaa-3a87a4e38879
電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]によるナノ相分離材料の組織分析
装置・プロセス:
NM-635:電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
ファイル数:
6
ファイルサイズ:
123.02KB
課題番号:
JPMXP1223NM5363
課題名:
ナノ相分離材料の組織分析
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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3
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シリコンDRIE装置 [ASE-SRE]による次世代インバータ応用に向けたダイヤモンドパワーデバイスの作製(2023年度)
装置・プロセス:
NM-616:シリコンDRIE装置 [ASE-SRE]
ファイル数:
4
ファイルサイズ:
52.23KB
課題番号:
JPMXP1223NM0011
課題名:
次世代インバータ応用に向けたダイヤモンドパワーデバイスの作製
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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2
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SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL]による電子ビームリソグラフィー装置を用いたGaN系材料の微細加工評価
装置・プロセス:
NM-633:SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL]
ファイル数:
6
ファイルサイズ:
88.1KB
課題番号:
JPMXP1223NM5066
課題名:
電子ビームリソグラフィー装置を用いたGaN系材料の微細加工評価
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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2
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マスクレス露光装置 [DL-1000]によるワイドバンドギャップ半導体の微細構造形成・デバイス応用
装置・プロセス:
NM-636:マスクレス露光装置 [DL-1000]
ファイル数:
17
ファイルサイズ:
327.37KB
課題番号:
JPMXP1223NM5073
課題名:
ワイドバンドギャップ半導体の微細構造形成・デバイス応用
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]によるダイヤモンド半導体用プロセスの開発(2023年度)
装置・プロセス:
NM-635:電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
ファイル数:
71
ファイルサイズ:
1.27MB
課題番号:
JPMXP1223NM5313
課題名:
n型半導体ダイヤモンドを利用したFET回路開発
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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5
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FE-SEM+EDX [S-4800]によるメカノバイオロジカル材料の開発(2023年度)
装置・プロセス:
NM-647:FE-SEM+EDX [S-4800]
ファイル数:
5
ファイルサイズ:
1.88MB
課題番号:
JPMXP1223NM5061
課題名:
メカノバイオロジカル材料の開発
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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GaNのドライエッチング(2023年度)
装置・プロセス:
NM-618:原子層エッチング装置 [PlasmaPro 100 ALE]
ファイル数:
2
ファイルサイズ:
24.41KB
課題番号:
JPMXP1223NM0008
課題名:
希土類ドープ窒化ガリウムへのフォトニック結晶構造形成2
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #1]による原子層堆積技術の研究(2023年度)
装置・プロセス:
NM-646:赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #1]
ファイル数:
31
ファイルサイズ:
377.06KB
課題番号:
JPMXP1223NM5090
課題名:
原子層堆積技術の研究
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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2
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電子銃型蒸着装置 [MB-501010]による高機能性誘電体材料薄膜の創製
装置・プロセス:
NM-642:電子銃型蒸着装置 [MB-501010]
ファイル数:
24
ファイルサイズ:
353.84KB
課題番号:
JPMXP1223NM5139
課題名:
高機能性誘電体材料薄膜の創製
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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2
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FE-SEM+EDX [S-4800]によるナノ相分離材料の組織分析_EDX
装置・プロセス:
NM-647:FE-SEM+EDX [S-4800]
ファイル数:
105
ファイルサイズ:
40.55MB
課題番号:
JPMXP1223NM5363
課題名:
ナノ相分離材料の組織分析
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
ページビュー:
3
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赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #1]による薄膜評価技術の研究
装置・プロセス:
NM-646:赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #1]
ファイル数:
3
ファイルサイズ:
41.96KB
課題番号:
JPMXP1223NM5093
課題名:
薄膜評価技術の研究
実施機関:
物質・材料研究機構
登録日:
2026.6.4
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