新着順
表示件数
表示順
物質空間テクトニクスプロジェクトの研究(硬X線光電子分光分析装置)_FY2023- 装置・プロセス：
-
NM-202：硬X線光電子分光分析装置（HAX-PES/XPS）
- ファイル数：
- 187
- ファイルサイズ：
- 65.75MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5116
- 課題名：
- 物質空間テクトニクスプロジェクトの研究
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 25
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 金属材料の加工熱処理実験の素材準備(多目的X線回折装置)
- 装置・プロセス：
-
NM-204：多目的X線回折装置_Cu_SSL
- ファイル数：
- 11
- ファイルサイズ：
- 3.64MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5069
- 課題名：
- 金属材料の加工熱処理実験の素材準備
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 22
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 固体イオニクス新材料・新機能_23NM5065_Quantes
- 装置・プロセス：
-
NM-202：硬X線光電子分光分析装置（HAX-PES/XPS）
- ファイル数：
- 73
- ファイルサイズ：
- 29.01MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5065
- 課題名：
- 固体イオニクスに基づく新材料・新機能の創製
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 22
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- セルロースナノファイバー-金属複合材料の開発(硬X線光電子分光分析装置_BIC-Fitting)
- 装置・プロセス：
-
NM-202：硬X線光電子分光分析装置（HAX-PES/XPS）
- ファイル数：
- 30
- ファイルサイズ：
- 7.42MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0183
- 課題名：
- セルロースナノファイバー-金属複合材料の開発
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 23
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- シリコーンゴムの表面汚染評価(飛行時間型二次イオン質量分析装置)
- 装置・プロセス：
-
NM-205：飛行時間型二次イオン質量分析装置
- ファイル数：
- 12
- ファイルサイズ：
- 7.68MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0172
- 課題名：
- シリコーンゴムの表面汚染評価
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 20
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- TOF-SIMSを用いた混錬材料評価手法の検討及び製品接着不具合の解析(飛行時間型二次イオン質量分析装置)
- 装置・プロセス：
-
NM-205：飛行時間型二次イオン質量分析装置
- ファイル数：
- 80
- ファイルサイズ：
- 103.73MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0141
- 課題名：
- TOF-SIMSを用いた混錬材料評価手法の検討及び製品接着不具合の解析
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 21
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- TOF-SIMSを用いた混錬材料評価手法の検討及び製品接着不具合の解析(多目的X線回折装置)
- 装置・プロセス：
-
NM-204：多目的X線回折装置_Cu_SSL
- ファイル数：
- 11
- ファイルサイズ：
- 3.87MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0141
- 課題名：
- TOF-SIMSを用いた混錬材料評価手法の検討及び製品接着不具合の解析
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 22
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- TOF-SIMSを用いた混錬材料評価手法の検討及び製品接着不具合の解析(硬X線光電子分光分析装置_BIC-Fitting)
- 装置・プロセス：
-
NM-202：硬X線光電子分光分析装置（HAX-PES/XPS）
- ファイル数：
- 44
- ファイルサイズ：
- 15.38MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0141
- 課題名：
- TOF-SIMSを用いた混錬材料評価手法の検討及び製品接着不具合の解析
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 22
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 層状酸化物正極LiNi0.7Mn0.3O2のX線光電子分光スペクトル
- 装置・プロセス：
-
NM-202：硬X線光電子分光分析装置（HAX-PES/XPS）
- ファイル数：
- 269
- ファイルサイズ：
- 97.49MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0133
- 課題名：
- X線光電子分光法を用いた層状酸化物正極の電子状態解析
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 21
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 出土遺物から探る非鉄金属生産技術の解明(多目的X線回折装置)
- 装置・プロセス：
-
NM-204：多目的X線回折装置_Cu_SSL
- ファイル数：
- 3
- ファイルサイズ：
- 716.57KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0085
- 課題名：
- 出土遺物から探る非鉄金属生産技術の解明
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 22
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 酸化物粉末の物性分析（XRD）
- 装置・プロセス：
-
NM-204：多目的X線回折装置_Cu_SSL
- ファイル数：
- 80
- ファイルサイズ：
- 24.43MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0081
- 課題名：
- 酸化物粉末の物性分析
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 28
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 酸化物粉末の物性分析（XPS)
- 装置・プロセス：
-
NM-202：硬X線光電子分光分析装置（HAX-PES/XPS）
- ファイル数：
- 594
- ファイルサイズ：
- 218.24MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0081
- 課題名：
- 酸化物粉末の物性分析
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 24
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 塩濃度勾配法による無機銅塩結晶の育成と結晶構造解析(多環境場対応型X線単結晶構造解析装置)
- 装置・プロセス：
-
NM-201：多環境場対応型X線単結晶構造解析装置
- ファイル数：
- 2
- ファイルサイズ：
- 640.55KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0089
- 課題名：
- 塩濃度勾配法による無機銅塩結晶の育成と結晶構造解析
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 31
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- *******非開示*******
- 装置・プロセス：
-
HK-303：電界放出形電子プローブマイクロアナライザー
- ファイル数：
- 16
- ファイルサイズ：
- 1.21MB
- 課題番号：
- JPMXP12********
- 課題名：
- *******非開示*******
- 実施機関：
- 北海道大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 18
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- *******非開示*******
- 装置・プロセス：
-
HK-303：電界放出形電子プローブマイクロアナライザー
- ファイル数：
- 64
- ファイルサイズ：
- 23.96MB
- 課題番号：
- JPMXP12********
- 課題名：
- *******非開示*******
- 実施機関：
- 北海道大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 16
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- ナノチューブスタンプ法を用いた細胞への物質の直接導入(2023年度:FV3000RS)
- 装置・プロセス：
-
WS-031：共焦点レーザー走査型顕微鏡
- ファイル数：
- 262
- ファイルサイズ：
- 20.37MB
- 課題番号：
- JPMXP1223WS0006
- 課題名：
- ナノチューブスタンプ法を用いた細胞への物質の直接導入
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 25
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- ダイヤモンドナノピラー中のSiVセンター形成に関する研究(2023年度:EBX-6D)
- 装置・プロセス：
-
WS-003：電子ビーム蒸着装置
- ファイル数：
- 12
- ファイルサイズ：
- 72.44KB
- 課題番号：
- JPMXP1223WS0002
- 課題名：
- ダイヤモンドナノピラー中のSiVセンター形成に関する研究
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 22
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- ナノダイヤモンド中のNVセンターの電荷安定性に関する研究(2023年度:S-4800)
- 装置・プロセス：
-
WS-011：電界放出型 走査電子顕微鏡
- ファイル数：
- 67
- ファイルサイズ：
- 5.44MB
- 課題番号：
- JPMXP1223WS0003
- 課題名：
- ナノダイヤモンド中のNVセンターの電荷安定性に関する研究
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 22
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 分極率・分子間相互作用の制御による高屈折率ポリマーの開発(2023年度:iHR320)
- 装置・プロセス：
-
WS-026：高性能分光エリプソメータ
- ファイル数：
- 20
- ファイルサイズ：
- 5.67MB
- 課題番号：
- JPMXP1223WS0051
- 課題名：
- 分極率・分子間相互作用の制御による高屈折率ポリマーの開発
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 29
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 屈曲/伸縮可能なMEMSデバイスシート(2023年度:MA6)
- 装置・プロセス：
-
WS-014：紫外線露光装置
- ファイル数：
- 8
- ファイルサイズ：
- 79.51KB
- 課題番号：
- JPMXP1223WS0021
- 課題名：
- 屈曲/伸縮可能なMEMSデバイスシート
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 21
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential