新着順
表示件数
表示順
ダイヤモンドナノピラー中のSiVセンター形成に関する研究(2023年度:ELS-7500)- 装置・プロセス：
-
WS-015：電子ビーム描画装置
- ファイル数：
- 28
- ファイルサイズ：
- 227.21KB
- 課題番号：
- JPMXP1223WS0002
- 課題名：
- ダイヤモンドナノピラー中のSiVセンター形成に関する研究
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 21
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- ダイヤモンドナノピラー中のSiVセンター形成に関する研究(2023年度:SU8240)
- 装置・プロセス：
-
WS-012：電界放出型 走査電子顕微鏡
- ファイル数：
- 6
- ファイルサイズ：
- 258.61KB
- 課題番号：
- JPMXP1223WS0002
- 課題名：
- ダイヤモンドナノピラー中のSiVセンター形成に関する研究
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 25
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- ダイヤモンド中のNVセンター形成に関する研究(2023年度:SU8240)
- 装置・プロセス：
-
WS-012：電界放出型 走査電子顕微鏡
- ファイル数：
- 160
- ファイルサイズ：
- 49.27MB
- 課題番号：
- JPMXP1223WS0001
- 課題名：
- ダイヤモンド中のNVセンター形成に関する研究
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 20
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- ダイヤモンドナノピラー中のSiVセンター形成に関する研究(2023年度:RIE-101iPH)
- 装置・プロセス：
-
WS-007：ICP-RIE装置
- ファイル数：
- 8
- ファイルサイズ：
- 39.59KB
- 課題番号：
- JPMXP1223WS0002
- 課題名：
- ダイヤモンドナノピラー中のSiVセンター形成に関する研究
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 21
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- ダイヤモンド中のNVセンター形成に関する研究(2023年度:ELS-7500)
- 装置・プロセス：
-
WS-015：電子ビーム描画装置
- ファイル数：
- 8
- ファイルサイズ：
- 65.01KB
- 課題番号：
- JPMXP1223WS0001
- 課題名：
- ダイヤモンド中のNVセンター形成に関する研究
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 29
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発_RIE
- 装置・プロセス：
- ファイル数：
- 3
- ファイルサイズ：
- 52.56KB
- 課題番号：
- JPMXP1223GA0014
- 課題名：
- 余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
- 実施機関：
- 香川大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 24
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発_Dry cleaning
- 装置・プロセス：
- ファイル数：
- 3
- ファイルサイズ：
- 48.61KB
- 課題番号：
- JPMXP1223GA0014
- 課題名：
- 余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
- 実施機関：
- 香川大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 21
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発_Lithography
- 装置・プロセス：
- ファイル数：
- 12
- ファイルサイズ：
- 554.13KB
- 課題番号：
- JPMXP1223GA0014
- 課題名：
- 余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
- 実施機関：
- 香川大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 22
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発_Wet cleaning_etch
- 装置・プロセス：
- ファイル数：
- 9
- ファイルサイズ：
- 153.45KB
- 課題番号：
- JPMXP1223GA0014
- 課題名：
- 余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
- 実施機関：
- 香川大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 19
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発_Sputtering
- 装置・プロセス：
-
GA-004：デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
- ファイル数：
- 6
- ファイルサイズ：
- 124.34KB
- 課題番号：
- JPMXP1223GA0014
- 課題名：
- 余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
- 実施機関：
- 香川大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 24
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発_Process flow
- 装置・プロセス：
-
プロセスフロー
- ファイル数：
- 3
- ファイルサイズ：
- 136.49KB
- 課題番号：
- JPMXP1223GA0014
- 課題名：
- 余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
- 実施機関：
- 香川大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 19
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 高温での焼結鉄の金属組織(α：γ)割合調査(多目的X線回折装置)_FY2023
- 装置・プロセス：
-
NM-204：多目的X線回折装置_Cu_SSL
- ファイル数：
- 9
- ファイルサイズ：
- 2.75MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0084
- 課題名：
- 高温での焼結鉄の金属組織(α：γ)割合調査
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 25
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- ナノダイヤモンド中のNVセンターの電荷安定性に関する研究(2023年度:R-150)
- 装置・プロセス：
-
WS-004：原子層堆積装置
- ファイル数：
- 12
- ファイルサイズ：
- 83.65KB
- 課題番号：
- JPMXP1223WS0003
- 課題名：
- ナノダイヤモンド中のNVセンターの電荷安定性に関する研究
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 登録日：
- 2026.4.23
- ページビュー：
- 31
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- インヒビター浸漬後の炭素鋼表面と安息香酸ナトリウム
- 装置・プロセス：
-
HK-201：X線光電子分光装置
- ファイル数：
- 5
- ファイルサイズ：
- 811KB
- 課題番号：
- JPMXP1223HK0031
- 課題名：
- 特殊環境下に最適な防錆剤の研究
- 実施機関：
- 北海道大学
- 登録日：
- 2026.4.22
- ページビュー：
- 35
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 炭素系素材の表面処理による吸着・触媒特性の変化 【HK-201_JPS-9200】
- 装置・プロセス：
-
HK-201：X線光電子分光装置
- ファイル数：
- 8
- ファイルサイズ：
- 2.38MB
- 課題番号：
- JPMXP1223HK0110
- 課題名：
- 炭素系素材の表面処理による吸着・触媒特性の変化
- 実施機関：
- 北海道大学
- 登録日：
- 2026.4.22
- ページビュー：
- 34
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 水中光合成によるナノ材料の作製【HK-201_JPS-9200】
- 装置・プロセス：
-
HK-201：X線光電子分光装置
- ファイル数：
- 11
- ファイルサイズ：
- 4.03MB
- 課題番号：
- JPMXP1223HK0034
- 課題名：
- 水中光合成によるナノ材料の作製
- 実施機関：
- 北海道大学
- 登録日：
- 2026.4.22
- ページビュー：
- 29
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- グラフェン溶液セルの高効率な作製手法の開発 【HK-406_JPS-9200】
- 装置・プロセス：
-
HK-406：X線光電子分光装置
- ファイル数：
- 3
- ファイルサイズ：
- 829.28KB
- 課題番号：
- JPMXP1223HK0104
- 課題名：
- グラフェン溶液セルの高効率な作製手法の開発
- 実施機関：
- 北海道大学
- 登録日：
- 2026.4.22
- ページビュー：
- 35
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 形態制御材料の構造及び組成解析【HK-201_JPS-9200】
- 装置・プロセス：
-
HK-201：X線光電子分光装置
- ファイル数：
- 27
- ファイルサイズ：
- 8.93MB
- 課題番号：
- JPMXP1223HK0037
- 課題名：
- 形態制御材料の構造及び組成解析
- 実施機関：
- 北海道大学
- 登録日：
- 2026.4.22
- ページビュー：
- 32
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- *******非開示*******
- 装置・プロセス：
-
UE-012：高速応答FT-IR
- ファイル数：
- 72
- ファイルサイズ：
- 8.23MB
- 課題番号：
- JPMXP12********
- 課題名：
- *******非開示*******
- 実施機関：
- 電気通信大学
- 登録日：
- 2026.4.22
- ページビュー：
- 31
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- *******非開示*******
- 装置・プロセス：
-
UE-013：ESI-TOF型質量分析計
- ファイル数：
- 212
- ファイルサイズ：
- 85.64MB
- 課題番号：
- JPMXP12********
- 課題名：
- *******非開示*******
- 実施機関：
- 電気通信大学
- 登録日：
- 2026.4.22
- ページビュー：
- 29
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential