新着順
表示件数
表示順
複数の方法で合成したC-A-S-Hゲルの500MHz固体高分解能NMRシステムによる構造解析- 装置・プロセス：
-
NM-102：500MHz固体高分解能NMRシステム
- ファイル数：
- 96
- ファイルサイズ：
- 25.22MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0098
- 課題名：
- 複数の方法で合成したC-A-S-HゲルのNMRによる構造解析
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.4.1
- ページビュー：
- 80
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 煆焼アロフェン系セメントの800MHzワイドボア固体高分解能NMRシステムによる構造解析(2023年度)
- 装置・プロセス：
-
NM-104：800MHzワイドボア固体高分解能NMRシステム
- ファイル数：
- 18
- ファイルサイズ：
- 4.44MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM0054
- 課題名：
- 煆焼アロフェンを用いたCO2削減型セメントとカーボンニュートラルコンクリートの開 発
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.4.1
- ページビュー：
- 89
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- 500MHz固体汎用NMRシステムによる高温NMRの開発と応用（2023年度）
- 装置・プロセス：
-
NM-101：500MHz固体汎用NMRシステム
- ファイル数：
- 30
- ファイルサイズ：
- 6.39MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NM5339
- 課題名：
- 高温NMRの開発と応用
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.4.1
- ページビュー：
- 85
- ダウンロード数：
- 0
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
- レーザー描画装置 SU-8 2002 膜厚2 μm L＆S作製の検討(2025年度:SU8240)
- 装置・プロセス：
-
WS-012：電界放出型 走査電子顕微鏡
- ファイル数：
- 338
- ファイルサイズ：
- 148.59MB
- 課題番号：
- JPMXP1225WS5002
- 課題名：
- レーザー描画装置 SU-8 2002 膜厚2 μm L＆S作製の検討
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 登録日：
- 2026.3.31
- ページビュー：
- 153
- ダウンロード数：
- 13
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- レーザー描画装置 SU-8 2002 膜厚2 μm L＆S作製の検討(2025年度:MLA150)
- 装置・プロセス：
-
WS-016：レーザー直接描画装置
- ファイル数：
- 35
- ファイルサイズ：
- 28.22MB
- 課題番号：
- JPMXP1225WS5002
- 課題名：
- レーザー描画装置 SU-8 2002 膜厚2 μm L＆S作製の検討
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 登録日：
- 2026.3.31
- ページビュー：
- 131
- ダウンロード数：
- 21
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- TEOS Plasma CVD装置における厚膜成膜条件検討(2025年度:iHR320)
- 装置・プロセス：
-
WS-026：高性能分光エリプソメータ
- ファイル数：
- 59
- ファイルサイズ：
- 20.8MB
- 課題番号：
- JPMXP1225WS5001
- 課題名：
- TEOS Plasma CVD装置における厚膜成膜条件検討
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 登録日：
- 2026.3.31
- ページビュー：
- 112
- ダウンロード数：
- 15
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- TEOS Plasma CVD装置における厚膜成膜条件検討(2025年度:PD-220)
- 装置・プロセス：
-
WS-030：プラズマCVD装置
- ファイル数：
- 160
- ファイルサイズ：
- 1.19MB
- 課題番号：
- JPMXP1225WS5001
- 課題名：
- TEOS Plasma CVD装置における厚膜成膜条件検討
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 登録日：
- 2026.3.31
- ページビュー：
- 122
- ダウンロード数：
- 15
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- レーザー描画装置 SU-8 2002 膜厚2 μm L＆S作製の検討(2025年度:RIE-10NR)
- 装置・プロセス：
-
WS-008：CCP-RIE装置
- ファイル数：
- 4
- ファイルサイズ：
- 32.06KB
- 課題番号：
- JPMXP1225WS5002
- 課題名：
- レーザー描画装置 SU-8 2002 膜厚2 μm L＆S作製の検討
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 登録日：
- 2026.3.31
- ページビュー：
- 108
- ダウンロード数：
- 13
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- レーザー描画装置 SU-8 2002 膜厚2 μm L＆S作製の検討(2025年度:PR500)
- 装置・プロセス：
-
WS-006：プラズマアッシャー
- ファイル数：
- 4
- ファイルサイズ：
- 29.02KB
- 課題番号：
- JPMXP1225WS5002
- 課題名：
- レーザー描画装置 SU-8 2002 膜厚2 μm L＆S作製の検討
- 実施機関：
- 早稲田大学
- 登録日：
- 2026.3.31
- ページビュー：
- 103
- ダウンロード数：
- 12
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- 石英基板へのPMER P-HA 1300PM形状転写条件の検討実験
- 装置・プロセス：
-
NM-617：ICP-RIE装置 [RV-APS-SE]
- ファイル数：
- 322
- ファイルサイズ：
- 22.75MB
- 課題番号：
- JPMXP1225NM2005
- 課題名：
- 技術開発
- 実施機関：
- 物質・材料研究機構
- 登録日：
- 2026.3.30
- ページビュー：
- 119
- ダウンロード数：
- 19
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- スパッタによるCo/Cu多層膜作製とAFM評価
- 装置・プロセス：
-
NU-203：薄膜X線回折装置
NU-204：原子間力顕微鏡
NU-205：3元マグネトロンスパッタ装置
- ファイル数：
- 20
- ファイルサイズ：
- 12.51MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NU5202
- 課題名：
- 名古屋大学加工_蓄積データ
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 登録日：
- 2026.3.23
- ページビュー：
- 165
- ダウンロード数：
- 24
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- スパッタによるCo/Cu多層膜作製
- 装置・プロセス：
-
NU-203：薄膜X線回折装置
NU-204：原子間力顕微鏡
NU-205：3元マグネトロンスパッタ装置
- ファイル数：
- 12
- ファイルサイズ：
- 195.21KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NU5202
- 課題名：
- 名古屋大学加工_蓄積データ
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 登録日：
- 2026.3.23
- ページビュー：
- 168
- ダウンロード数：
- 20
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- スパッタによるSiO2成膜
- 装置・プロセス：
-
NU-205：3元マグネトロンスパッタ装置
- ファイル数：
- 6
- ファイルサイズ：
- 104.83KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NU5202
- 課題名：
- 名古屋大学加工_蓄積データ
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 登録日：
- 2026.3.23
- ページビュー：
- 127
- ダウンロード数：
- 19
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- スパッタによるO2流量変化したZrO2成膜とレート評価
- 装置・プロセス：
-
NU-205：3元マグネトロンスパッタ装置
NU-203：薄膜X線回折装置
- ファイル数：
- 9
- ファイルサイズ：
- 147.79KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NU5202
- 課題名：
- 名古屋大学加工_蓄積データ
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 登録日：
- 2026.3.23
- ページビュー：
- 141
- ダウンロード数：
- 14
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- スパッタによるNi成膜
- 装置・プロセス：
-
NU-205：3元マグネトロンスパッタ装置
- ファイル数：
- 21
- ファイルサイズ：
- 367.07KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NU5202
- 課題名：
- 名古屋大学加工_蓄積データ
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 登録日：
- 2026.3.23
- ページビュー：
- 126
- ダウンロード数：
- 18
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- スパッタによる成膜角度変化したZrO2成膜
- 装置・プロセス：
-
NU-205：3元マグネトロンスパッタ装置
NU-204：原子間力顕微鏡
NU-203：薄膜X線回折装置
- ファイル数：
- 12
- ファイルサイズ：
- 197.3KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NU5202
- 課題名：
- 名古屋大学加工_蓄積データ
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 登録日：
- 2026.3.23
- ページビュー：
- 121
- ダウンロード数：
- 14
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- スパッタによる成膜角度変化したZrO2成膜とXRD評価
- 装置・プロセス：
-
NU-205：3元マグネトロンスパッタ装置
NU-203：薄膜X線回折装置
NU-204：原子間力顕微鏡
- ファイル数：
- 12
- ファイルサイズ：
- 4.13MB
- 課題番号：
- JPMXP1223NU5202
- 課題名：
- 名古屋大学加工_蓄積データ
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 登録日：
- 2026.3.23
- ページビュー：
- 122
- ダウンロード数：
- 20
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- スパッタによるAu成膜
- 装置・プロセス：
-
NU-205：3元マグネトロンスパッタ装置
- ファイル数：
- 6
- ファイルサイズ：
- 105.19KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NU5202
- 課題名：
- 名古屋大学加工_蓄積データ
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 登録日：
- 2026.3.23
- ページビュー：
- 107
- ダウンロード数：
- 17
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- スパッタによるBi成膜
- 装置・プロセス：
-
NU-205：3元マグネトロンスパッタ装置
- ファイル数：
- 6
- ファイルサイズ：
- 104.89KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NU5202
- 課題名：
- 名古屋大学加工_蓄積データ
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 登録日：
- 2026.3.23
- ページビュー：
- 126
- ダウンロード数：
- 21
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。
- スパッタによるMo成膜
- 装置・プロセス：
-
NU-205：3元マグネトロンスパッタ装置
- ファイル数：
- 3
- ファイルサイズ：
- 52.38KB
- 課題番号：
- JPMXP1223NU5202
- 課題名：
- 名古屋大学加工_蓄積データ
- 実施機関：
- 名古屋大学
- 登録日：
- 2026.3.23
- ページビュー：
- 110
- ダウンロード数：
- 20
ライセンスレベルの説明
ライセンスレベル
Level1：Open
Level2：Sample
Level3：License
Level4：Restricted
Level5：Confidential
ダウンロードの説明
クリックするとファイル群をダウンロードすることができます。