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データセット名:ダイヤモンド中のNVセンター形成に関する研究(2023年度:ELS-7500)

課題名:ダイヤモンド中のNVセンター形成に関する研究

データセット登録者(所属機関):TANII, Takashi (早稲田大学)

課題番号:
JPMXP1223WS0001
実施機関:
早稲田大学

要約

ダイヤモンド中のNVセンターは量子計測や量子計算に優れた特性を有するが、形成過程における熱拡散の影響などの追跡は困難であった。本研究は、孤立した円形パターンを用いて、NVセンターの個数制御と熱拡散の影響を実験的に調査することを目的とした。実験では、電子線描画装置を用いて、PMMAレジストを塗布した単結晶ダイヤモンド基板上に規則配列した円形パターンを形成した。描画条件として加速電圧50eVを用い、スポット照射量を9 fC/spotから100 fC/spotまで変化させた複数の領域を作成した。パターニングされたレジストマスクを介して窒素イオンを注入し、熱処理を施すことでNVセンターを形成した。結果として、電子線描画は安定して実行された。現在は、形成したNVセンターのパルス光磁気共鳴計測による実験を進めている段階であった。ここでは電子ビーム描画装置の処理条件を示す。

Fig.1 ダイヤモンド基板表面に形成したEBパターン概略

キーワード・タグ

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マテリアルインデックス:
キーワードタグ:

データメトリックス

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57
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データインデックス

https://doi.org/10.71947/arim.jpmxp1223ws0001-1
登録日:
2026.04.23
エンバーゴ解除日:
2026.03.31
データセットID:
2a6b83a9-c635-4bff-b0ce-b3b16906611b
データタイル数:
2
ファイル数:
8
ファイルサイズ:
65.01KB
ライセンス:
ARIMライセンス

装置・プロセス

WS-015:電子ビーム描画装置

成果発表・成果利用