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データセット

データセット名:平面櫛歯型静電アクチュエータ(実習:202308徳島大)_Lithography

課題名:静電アクチュエータ製作の実習

データセット登録者(所属機関):YAMAGUCHI, Kenzo(徳島大学)

課題番号:
JPMXP1223TT0021
実施機関:
豊田工業大学

要約

2023年8月2から4日に、平面櫛歯型静電アクチュエータ試作の実習を行った。
本実習では、SOI(Silicon On Insulator)基板の表面でマスクアライナ装置(TT-006、ズースマイクロテック MA6)を用いたフォトリソ、Deep Reactive Ion Etching装置(TT-011、住友精密工業 Multiplex-ASE-SRE-SE)を用いたSi深掘りエッチングを行うSOI-MEMSプロセスで製作した。
なお、元の静電アクチュエータ開発のデータは課題番号JPMXP1223TT0015にて示す。
本データセットは、実習時の静電アクチュエータのレジストパターンを形成したLithography工程を示す。
> 関連データセット:
> 平面櫛歯型静電アクチュエータ(実習:202308徳島大)_Process flow
> JPMXP1223TT0015:平面櫛歯型静電アクチュエータ(50V駆動で10μm変位)製作プロセスフロー

アクチュエータ部のレジストパターン

キーワード・タグ

重要技術領域(主):
重要技術領域(副):
横断技術領域:
マテリアルインデックス:
キーワードタグ:

データメトリックス

ページビュー:
48
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0

データインデックス

登録日:
2026.04.27
エンバーゴ解除日:
2024.03.29
データセットID:
6a4d9913-b6dc-424b-b725-3abb0df2d2be
データタイル数:
1
ファイル数:
5
ファイルサイズ:
962.53KB
ライセンス:
ARIMライセンス

装置・プロセス

TT-006:マスクアライナ装置

成果発表・成果利用