課題番号：

JPMXP1223NM0172

実施機関：

物質・材料研究機構

要約

環境負荷の小さい電子デバイス製造技術として印刷エレクトロニクスの開発が進められている。特にグラビアオフセット印刷、反転オフセット印刷、マイクロコンタクト印刷などシリコーンゴムを用いることで微細性を向上させる印刷法が注目を浴びている。これらの工法では、印刷毎にシリコーンゴム表面がインクや基板と接触するため、表面劣化・汚染状態を評価することは量産化に進む上で重要である。
シリコーンゴムを用いる印刷法の一種である、付着力コントラスト印刷を用いた実験を行った。まずCuナノ粒子インクをシリコーンゴムシートに塗布し、乾燥待機後、刷版で不要インク部を転写除去し、その結果シリコーンゴムシート上に形成されたCuパターンをPET基板に転写した。この一連の工程を2000回連続して実施し、その前後の表面をToF-SIMSで評価した。ULVAC PHI製ToF-SIMS(PHI TRIFT V nanoTOF)を利用し、Bi3++クラスターイオン源を用いて、Dose量は2×1011 [ions/cm2]としてE-Gun 中和を入れた状態で100μm角エリアを測定した。