データセット名：余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発_Lithography
課題名：余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
データセット登録者（所属機関）：TERAO, Kyohei（香川大学）
- 課題番号：
- JPMXP1223GA0014
- 実施機関：
- 香川大学
要約
薬剤刺激に対する応答を計測するためのPDMS製マイクロ流体デバイスの製作を行った。本データは、報告書に記載したデバイスに関連するデバイスの製作データである。
フォトリソグラフィ関連装置を用いてSiウェハ上にアライメントマークを形成した後、複数回のSU-8構造物形成プロセスにより三層構造の流路鋳型を作製した。次に、デュアルイオンビームスパッタ装置（GA-004、Hashino-tech_10W-IBS）を用いてAu/Cr膜を成膜し、離型層とした。その後、PDMS成型工程（未登録）によりPDMS流路を作製し、スライドガラスと接合した。
最終的に、反応性イオンエッチング装置（ARIM未登録、Samco RIE-10NR）を用いて残渣除去を行った。
本データセットは、アライメントマーク、SU-8構造物のパターニングを行うLithography工程を示す。
> 関連データセット：> 余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発_Process flow
キーワード・タグ
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データメトリックス
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データインデックス
- 登録日：
- 2026.04.23
- エンバーゴ解除日：
- 2026.03.31
- データセットID：
- 38655271-2bd1-4de9-af9c-4e8eeb170f82
- データタイル数：
- 4
- ファイル数：
- 12
- ファイルサイズ：
- 554.13KB
- ライセンス：
- ARIMライセンス
装置・プロセス