データセット名：MEMS粘度測定デバイスの開発_Lithography
課題名：MEMS応用の粘度測定デバイスの開発
データセット登録者（所属機関）：FUKUZAWA, Kenji （名古屋大学）
- 課題番号：
- JPMXP1223TT0033
- 実施機関：
- 豊田工業大学
要約
液体の粘度を測定する目的で、マイクロ流路に平行ばねで支持されたスライダー構造が組み込まれた液体の粘度測定するMEMSデバイスを製作した。
マスクアライナ装置（TT-006、ズースマイクロテック MA6）を用いたフォトリソでスライダー構造や櫛歯電極のレジストパターンを形成し、Deep Reactive Ion Etching装置（TT-011、住友精密工業 Multiplex-ASE-SRE-SE）でSi深掘りエッチングを行い、所望のシリコン形状を持つMEMSデバイスを製作した。
本データセットは、デバイス形状のレジストパターンを形成したLithography工程を示す。
> 関連データセット：
>MEMS粘度測定デバイスの開発_Process flow
キーワード・タグ
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データメトリックス
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データインデックス
- 登録日：
- 2026.04.27
- エンバーゴ解除日：
- 2024.03.29
- データセットID：
- 04386ab3-1da2-4e9c-975c-ea3dfa769a1b
- データタイル数：
- 1
- ファイル数：
- 4
- ファイルサイズ：
- 1.14MB
- ライセンス：
- ARIMライセンス