データセット名：水溶性ポリマーと接したフォトレジストのパターニング特性_Lithography
課題名：フォトレジスト材の検討
データセット登録者（所属機関）：SASAKI, Minoru （豊田工業大学）
- 課題番号：
- JPMXP1223TT9002
- 実施機関：
- 豊田工業大学
要約
ポジ型レジスト（東京応化工業 PN-0379D）の立体リソグラフィ適応性を検証した。PN-0379Dは狙い膜厚 5-15μm の比較的厚い膜厚で使用することを想定した柔軟性を持つレジスト（曲面貼付けに適する）で、膜厚を薄くすることでサブμmの解像力も期待できるレジストである。
立体リソグラフィのプロセスでは、レジスト/水溶性ポリマーPVA（polyvinyl alcohol）の2層膜として立体サンプルに貼り付けるが、PVAとレジスト材が副次的な反応を生じてパターニング特性が妨げられないか、平坦なシリコン基板にて検証を行った。
本データセットは、マスクアライナ装置（TT-006、ズースマイクロテック MA6）を用いてパターニングし、光学顕微鏡（TT-015、デジタルマイクロスコープ群）にて結果を観察した。
キーワード・タグ
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データメトリックス
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データインデックス
- 登録日：
- 2026.04.27
- エンバーゴ解除日：
- 2026.04.17
- データセットID：
- 9f76e9cd-8932-4d8d-911a-23ff9d83c9f2
- データタイル数：
- 3
- ファイル数：
- 19
- ファイルサイズ：
- 5.36MB
- ライセンス：
- ARIMライセンス