データセット名：フォトマスクの製作（４端子測定用電極パターン）_ Wet cleaning_etch
課題名：マスクの作成及び電極パタニング
データセット登録者（所属機関）：YOSHIMURA, Masamichi （豊田工業大学）
- 課題番号：
- JPMXP1223TT0031
- 実施機関：
- 豊田工業大学
要約
グラフェン、カーボンナノチューブなどのナノカーボン材料やMoS2などの遷移金属カルコゲナイドは、シリコンに変わる半導体材料として電子デバイスへの応用が期待されている。電子特性を調べるための四端子測定用電極パターンを形成するフォトマスク製作を行った。マスクレス露光装置（TT-005、大日本科研 MX-1204）を用いてフォトレジスト膜付きブランクマスクにパターンを形成し、洗浄ドラフト一式（TT-008）を用いてブランクマスク上のCr膜をエッチングし、フォトレジスト膜を除去した後、最後に洗浄した。
本データセットは、フォトマスクの製作のWet cleaning_etch工程を示す。
> 関連データセット：
> フォトマスクの製作（４端子測定用電極パターン）_ Process flow
キーワード・タグ
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データメトリックス
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データインデックス
- 登録日：
- 2026.04.27
- エンバーゴ解除日：
- 2024.03.29
- データセットID：
- e29fac6c-692a-4889-a064-03e558473b64
- データタイル数：
- 3
- ファイル数：
- 12
- ファイルサイズ：
- 470.46KB
- ライセンス：
- ARIMライセンス