データセット名：真空紫外光伝導性フッ化物薄膜の薄膜/基板界面
課題名：フッ化ネオジム薄膜の真空紫外光伝導性への薄膜/基板界面の影響
データセット登録者（所属機関）：ONO, Shingo （名古屋工業大学）
- 課題番号：
- JPMXP1222NI0203
- 実施機関：
- 名古屋工業大学
要約
真空紫外光は、半導体リソグラフィ、滅菌、光学洗浄、表面改質、分光など、様々な用途に用いられる。我々は、この真空紫外光をモニターするフッ化物光検出器開発のため、フッ化ネオジム (NdF3) をはじめとする複数のフッ化物薄膜が石英 (SiO2) 基板との界面で、アニーリングが各元素の拡散状況と光電導特性に及ぼす影響を調査した。フッ化物薄膜は、パルスレーザー堆積法によってSiO2 基板上に作製した。薄膜の表面状態の観察にはSEM(ARIM装置NI-002)を用いた。構造・結晶性評価はXRD、薄膜-基板間の界面の観察はTEM-EDSによって行い、元素分析にはEDSを用いた。光伝導特性評価と併せた詳細な解析から、薄膜基板界面の影響が大きく、VUV光検出器の開発においてアニーリングが重要な役割を果たすことを明らかにすることができた。
データは報告書のNdF3薄膜と同様に、調査した複数のフッ化物材料の一つとして、パルスレーザー堆積法にて石英ガラス上に堆積したCaF2薄膜の電子顕微鏡像である。
マテリアル情報：calcium floride, thin-layer
キーワード・タグ
- 重要技術領域（主）：
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データメトリックス
- ページビュー：
- 372
- ダウンロード数：
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データインデックス
- 登録日：
- 2025.05.23
- エンバーゴ解除日：
- 2025.03.31
- データセットID：
- c62a700b-bda8-4424-9bb6-421e53f4687a
- データタイル数：
- 1
- ファイル数：
- 2
- ファイルサイズ：
- 918B
- ライセンス：
- ARIMライセンス
装置・プロセス
成果発表・成果利用
- 論文等1：
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Tomoki Kato, Towards the development of a self-powered vacuum ultraviolet photodetector based on calcium fluoride/gold interface, Results in Optics, 11, 100378(2023).
DOI: 10.1016/j.rio.2023.100378
- 論文等2：
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Tomoki Kato, Influence of Annealing on Thin Film/Substrate Interface and Vacuum Ultraviolet Photoconductivity of Neodymium Fluoride Thin Films, Advanced Materials Interfaces, 11, (2023).
DOI: 10.1002/admi.202300696