共用設備検索結果
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スパッタ装置（対向ターゲット式） (Facing Targets sputtering machine)
- 設備ID
- IT-028
- 設置機関
- 東京科学大学（旧：東京工業大学）
- 設備画像
- メーカー名
- エフ・ティ・エスコーポレーション (FTS corp)
- 型番
- 特注品
- 仕様・特徴
- 対向ターゲット式RFスパッタリング（2元） 最大3インチまで （ただし堆積は中央の2インチ程度）
- 設備状況
- 稼働中
Ｘ線回折装置 (X-ray diffraction machine)
- 設備ID
- IT-029
- 設置機関
- 東京科学大学（旧：東京工業大学）
- 設備画像
- メーカー名
- リガク (Rigaku)
- 型番
- SmartLab
- 仕様・特徴
- 薄膜評価用試料水平型
- 設備状況
- 稼働中
フォトルミネッセンス測定装置 (Photoluminesence measurement system)
- 設備ID
- IT-030
- 設置機関
- 東京科学大学（旧：東京工業大学）
- 設備画像
- メーカー名
- 堀場製作所 (Horiba)
- 型番
- 顕微ＰＬ測定装置
- 仕様・特徴
- 励起波長:640nm、1064nm、受光器:GaInAs、対物レンズ:ｘ10(NA0.26)、x100(NA0.5)
- 設備状況
- 稼働中
磁気光学効果評価装置 (Evaluation appratus for magneto-optic effect)
- 設備ID
- IT-031
- 設置機関
- 東京科学大学（旧：東京工業大学）
- 設備画像
- メーカー名
- プレサイスゲージ サンテック FiberPro アドバンテスト ネオアーク 等のメーカー (Precise Gauges Santech FiberPro Advantest Neoark and other manufacturers)
- 型番
- PGAL-1005 TSL-510 CLS-561 Q8384 BH-762P-TIT
- 仕様・特徴
- プレサイスゲージ社製導波路調芯装置/サンテック社製波長可変光源（波長1500～1680nm）/FiberPro社製ASE光源（~20dBm）/アドバンテスト社製光スペクトラムアナライザ（波長分解能0.01nm）による光導波路試料の磁気光学効果の測定
ファラデー回転測定装置（波長1550nm、最大磁場~1.6T：面直）/ネオアーク社製磁気カー偏光顕微鏡（対物レンズ50倍、最大磁場~0.1T：面内）による薄膜試料の磁気光学効果の測定
- 設備状況
- 稼働中
共焦点ラマン顕微鏡 (Confocal Raman microscopy)
- 設備ID
- IT-032
- 設置機関
- 東京科学大学（旧：東京工業大学）
- 設備画像
- メーカー名
- WITec (WITec)
- 型番
- alpha300R
- 仕様・特徴
- 532 nm レーザー、グレーティング 600 g/mmおよび1800 g/mm（ブレーズ波長 500 nm）、空間分解能 350 nm（XY方向）および900 nm（Z方向）、対物レンズ 10倍・20倍・50倍・100倍、XYZ自動ステージによるラインスキャン・2次元マッピング・3次元マッピング
- 設備状況
- 稼働中
マイクロ波プラズマCVD装置 (Mircowave plasma enhanced CVD)
- 設備ID
- IT-033
- 設置機関
- 東京科学大学（旧：東京工業大学）
- 設備画像
- メーカー名
- アリオス (Arios)
- 型番
- DCVD-601BTG
- 仕様・特徴
- マイクロ波周波数 2.45 GHz、マイクロ波パワー 最大6 kW、水素・メタンガスによるダイヤモンド合成、窒素ガスによる不純物ドーピング、基板サイズ 50mmΦまで 窒素を添加することで、現在注目されている量子センサである窒素－空孔（NV）センタを作ることも可能です。
- 設備状況
- 稼働中
クライオ共焦点顕微鏡 (Cryogenic confocal microscopy)
- 設備ID
- IT-034
- 設置機関
- 東京科学大学（旧：東京工業大学）
- 設備画像
- メーカー名
- レニショー (Renishaw)
- 型番
- inVia Reflex
- 仕様・特徴
- クライオスタットのプラットフォーム温度 3.4~350 K（試料温度は3.5 Kよりも上昇）、レーザ波長 514 nm、対物レンズ 50倍、光検出器 アバランシェフォトダイオードおよび分光器、XYおよびXZの2次元発光マッピング、Hanbury-Brown Twiss計測
- 設備状況
- 稼働中
東京エレクトロン300mm ウェハプローバ (Tokyo Electron 300mm Wafer Prober)
- 設備ID
- IT-035
- 設置機関
- 東京科学大学（旧：東京工業大学）
- 設備画像
- メーカー名
- 東京エレクトロン (Tokyo Electron)
- 型番
- PrecioNanoPV00043
- 仕様・特徴
- 150mm, 200mm, 300mmウェハ対応プローバー
多数枚自動測定対応、シリコンフォトニクス受動デバイス静特性測定
- 設備状況
- 稼働中
FormFactor 300mm ウェハプローバ (FormFactor 300mm Wafer Prober)
- 設備ID
- IT-036
- 設置機関
- 東京科学大学（旧：東京工業大学）
- 設備画像
- メーカー名
- FormFactor (FormFactor)
- 型番
- CM300
- 仕様・特徴
- チップ~ 300mmウェハ対応プローバー
単枚自動測定対応、シリコンフォトニクス受動デバイス静/動特性測定
- 設備状況
- 稼働中
クリーンルーム付帯設備一式 (Equipments for clean room)
- 設備ID
- IT-037
- 設置機関
- 東京科学大学（旧：東京工業大学）
- 設備画像
- メーカー名
- KLA テンコール キーエンス キーエンス 等のメーカー (KLA Tencor Keyence Keyence and other manufacturers)
- 型番
- P-7 VHX-D510 VHX-7000
- 仕様・特徴
- 純水製造装置・薬品処理ドラフトチャンバー・レジスト処理装置・光学顕微鏡（デジタル含）、低真空SEM、触針式段差計などを含むクリーンルーム用設備群
・触針式段差計： Φ150mm電動ステージ > 長距離測定（最大150mm） 垂直測定レンジ（最大）327μm 垂直測定分解能（最高）0.001nm 段差測定再現性 1σ＝0.4nm （1μm標準試料） 針圧範囲 0.5～50mg
・低真空SEM： レンズ：電子式超深度レンズ＋光学 倍率：30-5000倍（垂直）、30－2000倍（傾斜）、50-500倍(光学) 観察像: 2次電子 試料サイス?: Φ100 mm 5軸(XYZ+傾斜+回転) 試料室200 mm ×200 mm 試料高さ 30 mm
・デジタル顕微鏡： ハイレゾリューションヘッド : 1/1.7 型 1,222万 画素 CMOSイメージセンサ 総画素 4,168 (H) × 3,062 (V) 実効画素 4,024 (H) × 3,036 (V)
- 設備状況
- 稼働中