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無機ドラフトチャンバー(ダルトン) (Wet bench(DALTON DF-1))

設備ID
TH-101
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
無機ドラフトチャンバー(ダルトン)
メーカー名
ダルトン (DALTON)
型番
DF-1, ECD-3000BEW
仕様・特徴
RCA洗浄、DHF、BHF、混酸等の調合、昇温、ウェハ処理、DIW水洗、スピン乾燥またはN2ブロー乾燥が可能
設備状況
稼働中

無機洗浄バッチ層(クレセン) (Wet bench(Clesen))

設備ID
TH-102
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
無機洗浄バッチ層(クレセン)
メーカー名
クレセン (Clesen)
型番
CWC4+4M
仕様・特徴
4インチウェハ1ケース(25枚)単位でのRCA洗浄およびDHF処理、DIW水洗が可能
設備状況
稼働中

有機ドラフトチャンバー(ダルトン) (Wet bench(DALTON ECS-1))

設備ID
TH-103
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
有機ドラフトチャンバー(ダルトン)
メーカー名
ダルトン (DALTON)
型番
ECS-1
仕様・特徴
イエロールーム内に設置
リソグラフィ後の現像、リンス処理が可能な有機薬品用ドラフタ
DIW使用可能
N2ブロー可能
設備状況
稼働中

マスク加工装置(KES-200NP2) (Mask Fabrication System)

設備ID
TH-151
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
マスク加工装置(KES-200NP2)
メーカー名
カナメックス (Kanamex)
型番
KES-200NP2
仕様・特徴
マスク乾板製作時のクロムエッチングおよび硫酸過水によるレジスト剥離装置、イエロールーム内に設置。
対応乾板サイズ:5インチ角
設備状況
稼働中

スピン乾燥機 (Spin Dryer)

設備ID
TH-152
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
スピン乾燥機
メーカー名
セミツール (Semitool)
型番
SRD270(改)
仕様・特徴
集積回路製造のメタルプロセス前までの、DIW後のウェーハ乾燥に用いることができます。
対応ウェーハサイズ:φ2インチ、φ4インチ
設備状況
稼働中

超臨界洗浄・乾燥装置(SCRD4) (Supercritical Cleaning and Drying System)

設備ID
TH-153
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
超臨界洗浄・乾燥装置(SCRD4)
メーカー名
レグザム (Rexxam)
型番
SCRD4
仕様・特徴
MEMS可動構造形成時の水洗後乾燥をCO2超臨界乾燥にて行え、微小可動構造の破損やスティクションを防止。φ4インチウェハサイズまで対応
設備状況
稼働中

Alスパッタ装置(L-420S) (Metal Deposition System(L-420S))

設備ID
TH-201
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
Alスパッタ装置(L-420S)
メーカー名
キヤノンアネルバ (Canon Anelva)
型番
L-420S-FHL
仕様・特徴
方式:DCスパッタ、フェイスアップ
対応試料:φ4インチ3枚またはφ2インチ6枚まで
材料:純Al、Al-1%Si
設備状況
稼働中

RF/DCメタルスパッタ装置(E-400S) (Metal Deposition System(E-400S))

設備ID
TH-202
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
RF/DCメタルスパッタ装置(E-400S)
メーカー名
キヤノンアネルバ (Canon Anelva)
型番
E-400S
仕様・特徴
方式:DC/RFスパッタ、フェイスダウン
対応試料:φ4インチ3枚またはチップトレイ
材料:純Al、Al-1%Si、Ti、W、TiN(反応性スパッタにて)
設備状況
稼働中

汎用メタルスパッタ装置(E-401S) (Metal Deposition System (E-401S))

設備ID
TH-203
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
汎用メタルスパッタ装置(E-401S)
メーカー名
キヤノンアネルバ (Canon Anelva)
型番
E-401S
仕様・特徴
方式:RF、フェイスアップ
対応試料:φ4インチ3枚
材料:Al、Al-1%Si、Ti、TiN(反応性スパッタにて)、その他金属持ち込み可能
設備状況
稼働中

汎用メタルスパッタ装置(Noyes) (Metal Deposition System (Noyes))

設備ID
TH-204
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
汎用メタルスパッタ装置(Noyes)
メーカー名
ノイエス (Noyes)
型番
RFS-400
仕様・特徴
方式:RFガン、フェイスダウン
ターゲットサイズ:φ2インチ
対応試料:φ4インチ以下
材料:Ti,Pt,Au,Ir その他金属持ち込み可能
基板回転機構あり
ターゲットサイズが小さいため、貴金属材料の成膜に向く
設備状況
稼働中
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