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接触式シート抵抗測定器 (4 Point Probe Sheet Resistance Measurement System)
- 設備ID
- KT-331
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ナプソン(株) (NAPSON CORPORATION)
- 型番
- Cresbox
- 仕様・特徴
- ナプソン株式会社 Cresbox
4探針法、10m~10MG/sq、2~8インチウェハ対応
マッピングソフトウェア
- 設備状況
- 稼働中
触針式段差計（CR） (Stylus Profilometer)
- 設備ID
- KT-332
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- Veeco社(株)アルバック (Veeco Instruments Inc.ULVAC, Inc.)
- 型番
- Dektak150
- 仕様・特徴
- (株)アルバック社製 Dektak150
垂直分解能(最高) 0.1nm
測定距離 50μm～55mm
サンプルステージサイズ 直径 150mm
- 設備状況
- 稼働中
触針式段差計（加工評価室） (Stylus Profilometer)
- 設備ID
- KT-333
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- Veeco社(株)アルバック (Veeco Instruments Inc.ULVAC, Inc.)
- 型番
- Dektak150
- 仕様・特徴
- (株)アルバック社製 Dektak150
垂直分解能(最高) 0.1nm
測定距離 50μm～55mm
サンプルステージサイズ 直径 150mm
- 設備状況
- 稼働中
ウエハプロファイラ (Optical Wafer Profiler)
- 設備ID
- KT-334
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ケーエルエー・テンコール(株) (KLA Corporation)
- 型番
- Zeta-388
- 仕様・特徴
- ナノからミリサイズまでの非接触３次元表面形状測定装置。
・測定モード：3D形状測定、膜厚測定、欠陥数カウント
・測定原理（3D形状）：焦点移動法、白色干渉法、位相シフト干渉法
・光源：白色LED、緑色LED（520～535 nm）
・ウエハサイズ：
4インチ、6インチ、8インチ（自動搬送可能）
小片（自動搬送不可）
・対物レンズ倍率
明視野用：2.5x、5x、10x、20x、50x、100x
光干渉用：10x、20x、50x
・Z軸移動レンジ：40mm(モーター)、200μm(ピエゾ)
・その他：スティッチング機能あり
- 設備状況
- 稼働中
触針式形状測定装置 (Stylus Profilometer)
- 設備ID
- KT-335
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ブルカー(株) (Bruker Corporation)
- 型番
- Dektak Pro-S
- 仕様・特徴
- BRUKER社製_Dektak Pro
・高さ分解能：0.1nm＠6.5μmレンジ
・高さ再現性：<0.4nm（1σ）
・高さ測定範囲：<1mm
・触圧範囲：1～15mg
・測定距離：<55mm
・サンプルステージ：Φ150mm対応可（XYステージ：手動100mm移動）／Θ360度（手動）
・スタイラス（先端曲率）：12.5μm、2μm
・薄膜応力測定機能
- 設備状況
- 稼働中
極低温高分解能透過型電子顕微鏡 (Ultralow-temperature high-resolution transmission electron microscope)
- 設備ID
- KT-401
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-2100F(G5)
- 仕様・特徴
- 液体ヘリウム冷却ステージを内蔵したクライオ電顕。溶液内のナノ集合体や有機材料の照射損傷を低減した観察が可能。クライオトランスファー機構装備。
・加速電圧：200kV
・電子銃：ショットキー型
・TEM分解能：0.2nm
・冷却温度：4.2K
- 設備状況
- 稼働中
球面収差補正透過電子顕微鏡 (Spherical-aberration-corected transmission electron microscope)
- 設備ID
- KT-402
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-2200FS
- 仕様・特徴
- 結像系の球面収差補正装置とインカラム型オメガフィルターを搭載した高分解能分析電子顕微鏡。
・加速電圧：200kV
・電子銃：ショットキー型
・TEM分解能：0.2nm
・エネルギー分解能：0.8eV
・分析機能：EELS
- 設備状況
- 稼働中
モノクロメータ搭載低加速原子分解能分析電子顕微鏡 (Monochromated atomic resolution analytical electron microscope)
- 設備ID
- KT-403
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-ARM200F
- 仕様・特徴
- 照射系と結像系に球面収差補正装置を搭載し、電子銃にはモノクロメータが組み込まれた高エネルギー分解能原子直視型分析電子顕微鏡。分析機能はEELSとEDSを装備。
・加速電圧：200kV、60kV
・電子銃：ショットキー型
・TEM分解能：0.1nm
・STEM分解能：0.08nm
・エネルギー分解能：0.03eV
・分析機能：EELS、EDS
- 設備状況
- 稼働中
ミクロトーム (Microtome apparatus)
- 設備ID
- KT-405
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ライカ (Leica)
- 型番
- ULTRA CUT UCT
- 仕様・特徴
- 比較的柔らかい有機物などをダイヤモンドナイフで切削して薄片化し、電子顕微鏡試料を作製する装置。
・ステージ温度：室温、液体窒素温度
- 設備状況
- 稼働中
デュアルビーム走査電子顕微鏡 (Dual Beam FIB-SEM)
- 設備ID
- KT-408
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JIB-4700F
- 仕様・特徴
- 1.SEM装置(0.1～30kV)
2.FIB装置(1～30kV)
3.EDS検出器
4.EBSD検出器
5.クライオステージ
6.WとCのガス吹付装置
- 設備状況
- 稼働中