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有機現像液型レジスト現像装置 (EB-Resist Developer)
- 設備ID
- KT-114
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
- 型番
- KD(EB)-150CBU
- 仕様・特徴
- 汎用的な枚葉式有機系現像装置。
・基板サイズ：Φ4、Φ6、□30mm、□40mm
・現像液：有機溶剤系現像液、IPAリンス
- 設備状況
- 稼働中
大面積超高速電子ビーム描画装置 (Large Area and Ultra-High Speed Electron Beam Lithography)
- 設備ID
- KT-115
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)アドバンテスト (ADVANTEST CORPORATION)
- 型番
- F7000S-KYT01
- 仕様・特徴
- 1Xnmの解像性能で、研究開発から製造までの幅広い用途に対応。
・加速電圧：50kV（ビーム電流：640A）
・解像度：1Xnm
・基板：□10mm～Φ8
・露光方式：CP、VSB（超高速描画対応）
- 設備状況
- 稼働中
近接効果補正システム (Proximity Effect Correction System)
- 設備ID
- KT-116
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- GenISys(株) (GenISys Inc.)
- 型番
- BEAMER Full Package
- 仕様・特徴
- 電子線描画装置、レーザー描画装置用の最適露光データ作成のための支援ツール。
・近接効果補正（PEC）：2Dドーズ補正、形状補正、3D補正、コーナー補正
・光近接効果補正（OPC）：線形補正、コーナー補正、全体形状補正
・グレイスケール露光における補正
・入出力フォーマット：エリオニクス社、アドバンテスト社、ハイデルベルグ社
・モンテカルロ法によるPSF値の導出対応。
- 設備状況
- 稼働中
超臨界洗浄・乾燥装置 (Supercritical Rinser & Dryer)
- 設備ID
- KT-117
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)レクザム (Rexxam Co., Ltd.)
- 型番
- SCRD401
- 仕様・特徴
- 超臨界CO2により微細構造物を変形・破壊せずに洗浄・乾燥が可能。
・基板サイズ：MAXΦ4
- 設備状況
- 稼働中
高圧ジェットリフトオフ装置 (High Pressure Jet Lift-off System)
- 設備ID
- KT-118
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
- 型番
- KLO-200SV1
- 仕様・特徴
- 高圧ジェット（NMP）を用いた枚葉式スピンリフトオフ装置。
・基板サイズ：Φ4、Φ6、不定形
・高温NMPによるレジスト膨潤（MAX80℃）
・MAX14MPaの高圧ジェットによるバリ＆再付着防止
- 設備状況
- 稼働中
両面マスク露光&ボンドアライメント装置 (Double-Sided/Infrared Mask Lithography & Bond Aligner )
- 設備ID
- KT-119
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ズース・マイクロテック(株) (SUSS MicroTec)
- 型番
- MA/BA8 Gen3 SPEC-KU
- 仕様・特徴
- 接合用アライメントとUVナノインプリント機能を兼備した複合装置。（マスクアライナー機能を兼備）
・基板サイズ：小片～Φ8"
・ウエハ厚さ：MAX 5mm
・マスクサイズ：MAX □9"
・アライメント精度：±0.25um＠表面、±1.0um＠裏面、±2.0um＠接合
- 設備状況
- 稼働中
マスクレス露光装置 (Advanced Maskless Aligner)
- 設備ID
- KT-121
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ハイデルベルグ・インストルメンツ(株) (Heidelberg Instruments)
- 型番
- MLA 150
- 仕様・特徴
- ・光源：レーザーダイオード（主波長375nm）
・最小描画線幅：1.0 µm、最小描画L/S：1.2 µm
・ワークサイズ：5 mm ～ 6 inchマスク、厚み：0.1 mm～10 mm
・露光均一性：120 nm（3σ）
・オートフォーカス：光学式・空気式の選択可
・アライメント精度：5 mm×5 mmの範囲： 250 nm（3σ）、100 mm×100 mmの範囲： 500 nm（3σ）
・裏面アライメント制精度：1 µm
- 設備状況
- 稼働中
二光子重合式３Dプリンター (3D Lithography and 3D Microprinting System )
- 設備ID
- KT-122
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ハイデルベルグ・インストルメンツ(株) (Heidelberg Instruments)
- 型番
- MPO 100
- 仕様・特徴
- 感光性材料内のレーザー集束スポット、2つの光子の同時吸収によって局所的に感光性材料の重合反応を引き起こす技術。レーザーの焦点は感光性材料の体積内全てに移動制御できるため、複雑な三次元（3D）構造を作製することが可能。
光源： フェムト秒レーザー 波長522 nm
最小描画ライン幅： 100 nm （UV硬化樹脂依存）
最小表面粗さRa： <10 nm
最大描画高さ： 380 µm
アライメント精度： <1.5 µm
最大描画領域： 100 mm x 100 mm
- 設備状況
- 稼働中
移動マスク紫外線露光装置 (Moving Mask UV Lithography)
- 設備ID
- KT-153
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)大日本科研 (Japan Science Engineering Co., Ltd.)
- 型番
- MUM-0001
- 仕様・特徴
- UV露光中にマスクを周期移動させることで3次元微細構造を実現。
・基板サイズ：Φ4
・3次元微細構造製作可能
- 設備状況
- 稼働中
両面マスクアライナー露光装置 (Double-Sided Mask Aligner)
- 設備ID
- KT-154
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ユニオン光学(株) (Union Optical Co., Ltd.)
- 型番
- PEM-800
- 仕様・特徴
- 実験用両面マスクアライナ
・基板サイズ：Φ4
・マスクサイズ：□5
・両面露光、アライメント機能
- 設備状況
- 稼働中