ナノインプリントシステム
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-257 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > ナノインプリント |
| 設備名称 | ナノインプリントシステム (Nanoimprint Lithography) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 桂キャンパス |
| メーカー名 | Obducat社 (OBDUCAT AB) |
| 型番 | Eitre3 |
| キーワード | 一括転写 ナノインプリント/ Nanoimprint |
| 仕様・特徴 | 最大3インチの基板サイズ対応の一括転写ナノインプリント装置 ・基板サイズ φ3 ・インプリント方式 STU/熱/UV、全面一括 ・最高到達温度（熱インプリント時） 250℃ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=KT-257 |
