高速高精度電子ビーム描画装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | KT-101 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 高速高精度電子ビーム描画装置 (Ultra-High Precision Electron Beam Lithography) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | (株)エリオニクス (ELIONIX INC.) |
| 型番 | ELS-F125HS |
| キーワード | レジストパターニング 電子線描画 |
| 仕様・特徴 | 加速電圧125kVを採用した電子線描画装置。最小ビーム径をΦ1.7nmにすることにより最小加工線幅5nmが可能。 ・加速電圧：125kV、100kV、75kV、50kV、25kV ・最小ビーム径：1.7nm＠125kV ・描画最小線幅：5nm＠125kV |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=KT-101 |
