紫外線露光装置
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-106 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 設備名称 | 紫外線露光装置 (Contact Mask Aligner) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | (株)ミカサ (MIKASA CORPORATION) |
| 型番 | MA-10 |
| キーワード | レジストパターニング 紫外線露光 光露光（マスクアライナ）/ Optical exposure (mask aligner) |
| 仕様・特徴 | 不定形試料に対応した実験用マスクアライナ。 ・光源：高圧UVランプ250W（g、h、i線）～10mW/cm2 ・基板サイズ：MAXΦ4（不定形対応） ・マスクサイズ：□5、□2.5 ・基板厚さ：MAX2mm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=KT-106 |
