レジスト塗布装置
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-108 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > レジスト処理装置 |
| 設備名称 | レジスト塗布装置 (Photoresist Spin Coater ) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.) |
| 型番 | KRC-150CBU |
| キーワード | レジスト塗布 レジスト処理装置/ Resist processing |
| 仕様・特徴 | 汎用的な枚葉式スピンコーター。 ・基板サイズ：Φ2～Φ6 □4-□5 ・搭載レジスト：THMR-iP1800EP（10cP）、TDMR-AR80HP（5cP） ・エッジリンス付 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=KT-108 |
