スプレーコータ
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-109 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > レジスト処理装置 |
| 設備名称 | スプレーコータ (Photoresist Spray Coater) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | ウシオ電機(株) (Ushio Inc.) |
| 型番 | USC-2000ST |
| キーワード | レジスト塗布 凹凸面対応 レジスト処理装置/ Resist processing |
| 仕様・特徴 | レジスト噴霧方式により凹凸基板へのコンフォーマルコーティングを実現。 ・基板サイズ：Φ4～6（塗布領域：MAX□4） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=KT-109 |
