近接効果補正システム
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | KT-116 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > その他 |
| 設備名称 | 近接効果補正システム (Proximity Effect Correction System) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | GenISys(株) (GenISys Inc.) |
| 型番 | BEAMER Full Package |
| キーワード | 電子線描画時の補正 |
| 仕様・特徴 | 電子線描画装置、レーザー描画装置用の最適露光データ作成のための支援ツール。 ・近接効果補正（PEC）：2Dドーズ補正、形状補正、3D補正、コーナー補正 ・光近接効果補正（OPC）：線形補正、コーナー補正、全体形状補正 ・グレイスケール露光における補正 ・入出力フォーマット：エリオニクス社、アドバンテスト社、ハイデルベルグ社 ・モンテカルロ法によるPSF値の導出対応。 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=KT-116 |
