高性能マッフル炉
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-229 |
|---|---|
| 分類 | 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール |
| 設備名称 | 高性能マッフル炉 (Muffle Furnace) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | アズワン(株) (AS ONE CORPORATION) |
| 型番 | HPM-2N |
| キーワード | 大気中熱処理 熱処理、レーザーアニール/ Thermal treatment and laser annealing |
| 仕様・特徴 | アズワン 高性能マッフル炉 HPM-2N 設定温度 １００℃～１２８０℃ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=KT-229 |
