真空蒸着装置（２）
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-233 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
| 設備名称 | 真空蒸着装置（２） (Thermal Evaporator No.2) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | (株)サンバック (SANVAC CO., LTD.) |
| 型番 | RD-1400 |
| キーワード | 金属を成膜 蒸着（抵抗加熱、電子線）/ Evaporation (resistance heating and electron beam) |
| 仕様・特徴 | 真空中で抵抗加熱蒸発源により物質を蒸発させ、電極・マスク材等の金属膜を作製することができます。 ・抵抗加熱方式 電極数量 3式(切り替え方式） ・基板 Φ4インチおよびΦ6インチウェハ ・基板加熱温度 最高350℃ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=KT-233 |
