簡易RIE装置
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-253 |
|---|---|
| 分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
| 設備名称 | 簡易RIE装置 (Tabletop Reactive Ion Etcher ) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 桂キャンパス |
| メーカー名 | サムコ(株) (Samco Inc.) |
| 型番 | FA-1 |
| キーワード | ドライエッチング プラズマエッチング/ Plasma etching |
| 仕様・特徴 | サムコ社製 FA-1 使用ガス：CF4，O2 チラー付属 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=KT-253 |
