マスクレス露光装置
最終更新日：2025年5月23日
| 設備ID | IT-004 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | マスクレス露光装置 (Maskless exposure system) |
| 設置機関 | 東京科学大学（旧：東京工業大学） |
| 設置場所 | 科学大（旧：東工大）大岡山キャンパス |
| メーカー名 | 大日本科研 (Japan Science Engineering Co., Ltd.) |
| 型番 | MX-1204 |
| キーワード | 微細構造形成光露光（マスクレス、直接描画）/ Optical exposure (maskless and direct drawing) |
| 仕様・特徴 | DMDによるパターン生成露光、150mm角露光サイズ、最小描画画素2μm、アライメント精度±0.15μm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=IT-004 |
