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低炭素ナノデバイス創製ハブは，皆様の研究の加速を支援する施設として80余種類の装置を提供しています．
1．多種多様な基板・薄膜材料をウエハレベルで加工・評価することができるナノマイクロ試作ラインを提供
・ナノリソグラフィー装置…マスク作製からレジスト現像までの多彩な一連の装置
・ナノ材料加工・創製装置…各種ドライエッチング，薄膜作製などの装置
・ナノ材料分析・評価装置…SEM，AFM，蛍光顕微鏡，電気特性評価装置など
2．開かれた施設として運用
研究支援のための施設として，簡単な手続きで学内外の研究者に広くご利用いただけます．
3．装置ごとに利用時間に応じた料金を設定
1時間当たり，1日当りの料金が設定されています．
4．利用者自らが装置を操作し実験できます
専門の技術職員による支援を受けながら利用できます．
5．技術相談，技術代行サービスも提供
技術職員が加工，評価に関する技術相談を承ります．必要な場合には技術代行も承ります．

2019/04/22	グレイスケールリソグラフィーセミナー&ワークショップ（5月30日，31日）開催のお知らせ
2019/04/05	「京大ナノハブでナノの世界を探ろう，操ろう」～ナノハブ所有のAFMと光ピンセットを使ったハンズオンと最新AFMのデモンストレーション～（6月4日，5日）開催のお知らせ
2019/01/18	『共用施設から生まれるイノベーション』～ナノテクが拓く未来～ －文部科学省 平成30年度 微細加工ナノプラットフォームコンソーシアムシンポジウム－（3月8日）開催のお知らせ
2018/10/26	薄膜実践セミナーIV（11月30日）開催のお知らせ
2018/10/17	「微小エネルギーを利用した革新的な環境発電技術の創出」公開シンポジウム　～環境発電技術を使ってみよう～（11月7日，8日）開催のお知らせ
2018/10/16	電子デバイスフォーラム京都：「大学セッション」（10月31日）開催のお知らせ
2018/09/12	電子ビームリソグラフィ実践セミナーⅣ（10月26日）開催のお知らせ
2018/09/07	バイオ&ナノ・マイクロデバイス実践セミナー　～微細加工技術のバイオ分野への応用に向けて～（10月12日）開催のお知らせ
2017/11/14	【開催報告】第4回ナノテクプラットフォーム関西「電子デバイスフォーラム京都」パネル展示及び大学セッション
2017/01/23	微細加工ナノプラットフォームコンソーシアムシンポジウム「共用施設から生まれるイノベーション」（3月8日）開催のお知らせ

• F-KT-222:高速高精度電子ビーム描画装置
• F-KT-223:露光装置（ステッパー）
• F-KT-224:レーザー直接描画装置
• F-KT-225:高速マスクレス露光装置
• F-KT-226:両面マスクアライナー
• F-KT-227:紫外線露光装置
• F-KT-228:超微細インクジェット描画装置
• F-KT-229:厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
• F-KT-230:レジスト塗布装置
• F-KT-231:スプレーコータ
• F-KT-232:レジスト現像装置
• F-KT-233:ウエハスピン洗浄装置
• F-KT-234:有機現像液型レジスト現像装置
• F-KT-235:ICP質量分析装置
• F-KT-236:多元スパッタ装置（仕様Ａ）
• F-KT-237:多元スパッタ装置（仕様Ｂ）
• F-KT-238:電子線蒸着装置
• F-KT-239:真空蒸着装置1
• F-KT-240:真空蒸着装置2
• F-KT-241:プラズマCVD装置
• F-KT-242:熱酸化炉
• F-KT-243:深堀りドライエッチング装置1
• F-KT-244:深堀りドライエッチング装置2
• F-KT-245:磁気中性線放電ドライエッチング装置
• F-KT-246:ドライエッチング装置
• F-KT-247:電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
• F-KT-248:シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
• F-KT-249:シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
• F-KT-250:赤外フェムト秒レーザ加工装置
• F-KT-251:レーザアニール装置
• F-KT-252:紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
• F-KT-253:基板接合装置
• F-KT-254:ナノインプリントシステム
• F-KT-255:赤外透過評価検査／非接触厚み測定機
• F-KT-256:レーザダイシング装置
• F-KT-257:ダイシングソー
• F-KT-258:真空マウンター
• F-KT-259:紫外線照射装置
• F-KT-260:エキスパンド装置
• F-KT-261:ウェッジワイヤボンダ
• F-KT-262:ボールワイヤボンダ
• F-KT-263:ダイボンダ
• F-KT-264:集束イオンビーム/走査電子顕微鏡
• F-KT-265:超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
• F-KT-266:分析走査電子顕微鏡
• F-KT-267:卓上顕微鏡(SEM)
• F-KT-268:高速液中原子間力顕微鏡
• F-KT-269:走査型プローブ顕微鏡システム
• F-KT-270:共焦点レーザー走査型顕微鏡
• F-KT-271:3D測定レーザー顕微鏡
• F-KT-272:全反射励起蛍光イメージングシステム
• F-KT-273:長時間撮影蛍光イメージングシステム
• F-KT-274:X線回折装置
• F-KT-275:分光エリプソメーター
• F-KT-276:光ピンセットシステム
• F-KT-277:ゼータ電位・粒径測定システム
• F-KT-278:ダイナミック光散乱光度計
• F-KT-279:触針式段差計（CR)
• F-KT-280:触針式段差計（分析・評価）
• F-KT-281:マイクロシステムアナライザ
• F-KT-282:光ヘテロダイン微小振動測定装置
• F-KT-283:超微小材料機械変形評価装置
• F-KT-286:パワーデバイスアナライザ
• F-KT-287:インピーダンスアナライザ
• F-KT-288:セルテストシステム
• F-KT-289:高周波伝送特性測定装置
• F-KT-293:ＥＢ露光装置
• F-KT-295:移動マスク紫外線露光装置
• F-KT-296:両面マスクアライナ露光装置
• F-KT-297:ナノインプリント装置
• F-KT-298:パリレン成膜装置
• F-KT-299:ICP-RIE装置
• F-KT-300:簡易RIE装置
• F-KT-301:ウエハ接合装置
• F-KT-302:ダイシング装置
• F-KT-303:大面積超高速電子線描画装置

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その他の成果事例