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本拠点の微細加工プラットフォームでは超高精細電子線描画装置や集束イオンビーム装置等の量子ビームテクノロジーやナノファブリケーション技術を用いて，高感度・高解像度レジストの材料開発とその評価、有機／無機／酸化物等の各種素材からなる極微デバイスの作製・評価，特異的なナノ構造体の開発等を行うための支援技術を提供します．これらの支援を拠点内の他の2つのプラットフォームや，代表機関を含む他機関プラットフォームと連携・融合して行います．
また，大阪大学の産学連携本部とも協力し，地域企業や学外の研究機関と有機的な連携をとりながら基礎基盤技術を確立し，新産業創出の礎を築くことを目指します．そして本学がもつ"智"と本拠点の利用者の融合をはかり，3つのプラットフォームを通して外に開かれたオールジャパン体制のゲートウェイとなることで，単なる設備・施設の共用のみを行うのではなく，ナノテクノロジー関連の人材育成やイノベーションの核となる知見・技術を創出するプラットフォームの"供用"を行います．

• F-OS-303:超高精細電子ビームリソグラフィー装置
• F-OS-305:電子ビームリソグラフィー装置
• F-OS-306:集束イオンビーム装置
• F-OS-307:SEM付集束イオンビーム装置
• F-OS-308:深掘りエッチング装置
• F-OS-309:リアクティブイオンエッチング装置
• F-OS-310:リアクティブイオンエッチング装置
• F-OS-312:EB蒸着装置
• F-OS-313:マスクアライナー
• F-OS-314:LED描画システム
• F-OS-315:イオンシャワーエッチング装置
• F-OS-316:ナノインプリント装置
• F-OS-317:多元DC/RFスパッタ装置
• F-OS-318:高精細集束イオンビーム装置
• F-OS-320:RFスパッタ成膜装置
• F-OS-321:RFスパッタ成膜装置
• F-OS-322:高速大面積電子ビームリソグラフィー装置

最新の成果事例

2020/9/3		ワイヤーグリッド型偏光板の作製 （株式会社東海理化）
2016/10/31		高Q値ナノ光ファイバ共振器の作製 （京都大学工学研究科）
2015/11/06		シリコン基板上への多孔質シリカマイクロチューブ自己集積技術の開発 （神戸大学自然科学系先端融合研究環重点研究部，神戸大学工学研究科）
2014/10/29		天然高分子材料の微細加工体の創製 （日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門，早稲田大学理工学研究所）
2013/10/17		高精細電子レジストの評価 （合同会社 グルーオンラボ）
2013/07/12		架橋フッ素樹脂微小部材を用いたUVナノインプリントに関する研究 （早稲田大学理工学術院総合研究所，大阪大学産業科学研究所）

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