【電話，E-mailでのお問合せ】
 029-853-5804
  staff(at)u-tsukuba-nanotech.jp
(at)を@に書き換えてください．

　本機関では，本学数理物質科学研究科ナノエレクトロニクス専攻やパワーエレクトロニクス専攻などと連携し，ナノエレクトロニクス分野を中心に，デバイス設計から試作・評価までを総合的に支援しています．
　デバイス設計においては，SILVACOデバイスシミュレーターを用いたデバイス構造と電子特性の事前予測が可能ですまた，デバイス試作に関しては，電子線描画およびマスクレスプロジェクション描画装置による高速微細パターンの形成，スパッタリング成 膜，およびデュアル集束イオンビームによる任意局所領域への加工・堆積等の技術を提供します．さらに，走査プローブ顕微鏡による局所解析，FIBを用いた3次元構造解析，低加速SEMによる非侵襲高分解能観察を通して，デバイスの特性・構造解析を行うことができます．
　TIAナノエレ人材育成事業との連携のもとで，高度な専門技術者の養成や産学連携を推進していきます．

2021/01/20	電子ビームリソグラフィセミナーⅥ（オンライン）～電子ビーム露光とレーザービーム描画によるグレースケール露光～（2月24日）開催のお知らせ
2019/10/02	電子ビームリソグラフィセミナーV（11月27日）開催のお知らせ
2018/09/12	電子ビームリソグラフィ実践セミナーⅣ（10月26日）開催のお知らせ
2017/01/23	微細加工ナノプラットフォームコンソーシアムシンポジウム「共用施設から生まれるイノベーション」（3月8日）開催のお知らせ
2016/09/09	微細加工プラットフォーム「センサー・MEMS実践セミナー」（9月30日）開催のお知らせ
2016/02/10	バイオ&計測実践セミナーII（3月15日）開催のお知らせ
2015/11/18	バイオ・MEMS実践セミナー（12月11日）開催のお知らせ

• F-BA-091:デバイスシミュレータ
• F-BA-092:スパッタリング装置
• F-BA-093:レーザー描画装置
• F-BA-094:FIB-SEM
• F-BA-096:電子線蒸着装置
• F-BA-097:電子線描画装置
• F-BA-098:走査型プローブ顕微鏡群
• F-BA-099:ウェーハーダイシングマシーン
• F-BA-100:電界放出形走査型電子顕微鏡
• F-BA-102:パターン投影リソグラフィシステム
• F-BA-103:インクジェットパターン生成装置
• F-BA-104:半導体特性評価システム
• F-BA-105:触針式表面形状測定器
• F-BA-106:微細パターン形成装置群（スピンコーター、マスクアライナー）
• F-BA-107:反応性イオンエッチング装置

最新の成果事例

その他の成果事例