参画機関から

微細加工 産業技術総合研究所 産業技術総合研究所

NPFセミナー 省エネルギー社会に貢献するGaN材料の将来とそのキープロセス技術(3月14日)開催のお知らせ

 産業技術総合研究所ナノプロセシング施設(NPF)は,「NPFセミナー ~省エネルギー社会に貢献するGaN材料の将来と,そのキープロセス技術~」を2019年3月14日(木)産業技術総合研究所臨海副都心センター別館11F会議室1(お台場)にて開催いたします.前半は,パワーデバイス応用と将来動向について,後半は,デバイス作製のキープロセスとしての成膜技術,エッチング技術について紹介いたします.
 オーサーズ・インタビューの時間を設けましたので,講演終了後に講師の先生に個別に質問をすることが可能です.産学官いずれのご所属の方にも奮ってのご参加をお待ちしています.

【日時】2019年3月14日(木)12:55~17:30
【場所】産業技術総合研究所臨海副都心センター別館11F会議室1(お台場)
https://www.aist.go.jp/aist_j/guidemap/tokyo_waterfront/tokyo_waterfront_map_main.html

【主催】産業技術総合研究所ナノプロセッシング施設(NPF)

【定員】90名(*先着順,定員になり次第締切)

【参加費】無料(*参加登録制)

【参加申込方法】
下記アドレス宛てE-mailにて申込(*入力必須項目あり)
E-mail:tia-npf-school4(at)aist.go.jp


【お問い合せ】国立研究開発法人 産業技術総合研究所
TIA推進センター 共用施設運営ユニット 共用施設ステーション ナノプロセシング施設
電子メールアドレス:tia-npf-school4(at)aist.go.jp
*(at)をアットマークに変更してからご使用ください.