参画機関から

微細加工 京都大学 京都大学 ナノテクノロジーハブ拠点

グレイスケールリソグラフィーセミナー&ワークショップ(5月30日,31日)開催のお知らせ

【日時】2019年5月30日(木)13:30~5月31日(金)18:30
【場所】京都大学ナノテクノロジーハブ拠点

◆主催
京都大学 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

◆共催
GenISys株式会社

◆概要
〈グレイスケールリソグラフィセミナー〉 2019年5月30日 13:30~18:00
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
GenISys株式会社
ナガセケムテックス株式会社
京都大学 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
交流会

〈ハンズオンワークショップ〉       2019年5月31日 9:00~18:30
ステップ&スロープ・フレネルレンズといった3次元構造体を実際のレジストにグレイスケール描画を行います.


◆定員
セミナーのみ 40名
セミナー及びワークショップ 10名

◆参加費 無料(*参加登録制)

◆参加申込方法
下記URLよりオンライン参加登録(1名様1枚ずつでのお手続きをお願いいたします.)
https://www.himt-jp.com/events/gureisukerurisogurafiandowakushoppu

【お問い合せ】大村英治 京都大学ナノテクノロジーハブ拠点
Tel:075-753-5655 / Mail:omura.eiji.4r(at)kyoto-u.ac.jp