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産業技術総合研究所,物質材料研究機構,筑波大学,東京工業大学
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2019/10/02
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電子ビームリソグラフィセミナーV(11月27日)開催のお知らせ
筑波大学,物質・材料研究機構,東京工業大学,産業技術総合研究所は,文部科学省委託事業である「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として「電子ビームリソグラフィセミナーV」を筑波大学東京キャンパスにて開催いたします.電子ビームリソグラフィー技術に関わる最新レジストプロセスからデータ補正技術,微細パターン形成の露光事例について紹介いたします.また,各セッションの終わりにオーサーズ・インタビューの時間を設けました.普段質問しづらいことを,この機会に是非,講師の先生方に個別にご質問ください.
産学官にかかわらず,多くの皆様のご参加をお待ちしています.
【日時】2019年11月27日(水)12:55~16:35
【場所】筑波大学東京キャンパス文京校舎 119号教室(丸ノ内線茗荷谷駅)
http://www.tsukuba.ac.jp/access/bunkyo_access.html【主催】産業技術総合研究所ナノプロセシング施設(NPF)
物質材料研究機構微細加工プラットフォーム
筑波大学微細加工プラットフォーム
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
【講演プログラム】12:55-13:00 はじめに 産業技術総合研究所 多田 哲也
13:00-13:40 『新規レジスト材料開発のための設計戦略』
大阪大学産業科学研究所
1,日本ゼオン株式会社
2 中島 綾子
1,星野 学
2,橋本 昌和
2,古澤 孝弘
113:40-14:20 『光集積回路作製を目的とした厚膜レジストへの電子ビーム露光近接効果補正技術』
東京工業大学 西山 伸彦
14:20-14:50 『レジスト現像シミュレーションから見る電子ビーム近接効果とその補正』
GenISys株式会社 清水 諭
14:50-15:05 休憩(オーサーズインタビュー)
15:05-15:35 『大面積偏向型超高速電子ビーム描画装置について』
株式会社エリオニクス 新関 嵩
15:35-15:55 『電子ビーム露光装置を用いたGa2O3 FinFETとAlN光導波路の作製』
筑波大学 奥村 宏典
15:55-16:15 『電子ビーム描画条件最適化のための実験的検証』
物質・材料開発機構 NIMS微細加工プラットフォーム 大里 啓孝
16:15-16:35 『ポジ・ネガ反転パターン形成のためのDDRプロセス』
産総研 ナノプロセシング施設 郭 哲維
17:00~18:30 意見交換会(無料) TAMAYA(筑波大学東京キャンパス正門前)
【参加費】無料
【定員】90名(先着順,参加登録をお願いします)
【申込期間】令和元年11月26日(火)17時迄
【お問い合せ】tia-npf-school2(at)aist.go.jp(*(at)をアットマークに変更してからご使用ください)