参画機関から

微細加工 産業技術総合研究所,物質材料研究機構,筑波大学,東京工業大学

電子ビームリソグラフィセミナーV(11月27日)開催のお知らせ

 筑波大学,物質・材料研究機構,東京工業大学,産業技術総合研究所は,文部科学省委託事業である「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として「電子ビームリソグラフィセミナーV」を筑波大学東京キャンパスにて開催いたします.電子ビームリソグラフィー技術に関わる最新レジストプロセスからデータ補正技術,微細パターン形成の露光事例について紹介いたします.また,各セッションの終わりにオーサーズ・インタビューの時間を設けました.普段質問しづらいことを,この機会に是非,講師の先生方に個別にご質問ください.
 産学官にかかわらず,多くの皆様のご参加をお待ちしています.

【日時】2019年11月27日(水)12:55~16:35
【場所】筑波大学東京キャンパス文京校舎 119号教室(丸ノ内線茗荷谷駅)
http://www.tsukuba.ac.jp/access/bunkyo_access.html

【主催】産業技術総合研究所ナノプロセシング施設(NPF)
    物質材料研究機構微細加工プラットフォーム
    筑波大学微細加工プラットフォーム
    東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所

【講演プログラム】
12:55-13:00 はじめに 産業技術総合研究所 多田 哲也
13:00-13:40 『新規レジスト材料開発のための設計戦略』
          大阪大学産業科学研究所1,日本ゼオン株式会社2
          中島 綾子1,星野 学2,橋本 昌和2,古澤 孝弘1
13:40-14:20 『光集積回路作製を目的とした厚膜レジストへの電子ビーム露光近接効果補正技術』
          東京工業大学 西山 伸彦 
14:20-14:50 『レジスト現像シミュレーションから見る電子ビーム近接効果とその補正』
          GenISys株式会社 清水 諭
14:50-15:05 休憩(オーサーズインタビュー)
15:05-15:35 『大面積偏向型超高速電子ビーム描画装置について』
          株式会社エリオニクス 新関 嵩
15:35-15:55 『電子ビーム露光装置を用いたGa2O3 FinFETとAlN光導波路の作製』
          筑波大学 奥村 宏典
15:55-16:15 『電子ビーム描画条件最適化のための実験的検証』
          物質・材料開発機構 NIMS微細加工プラットフォーム 大里 啓孝
16:15-16:35 『ポジ・ネガ反転パターン形成のためのDDRプロセス』
          産総研 ナノプロセシング施設 郭 哲維
17:00~18:30 意見交換会(無料)  TAMAYA(筑波大学東京キャンパス正門前)

【参加費】
無料
【定員】90名(先着順,参加登録をお願いします)
【申込期間】令和元年11月26日(火)17時迄
【セミナー案内/申し込み】https://www.sec-raccoon.jp/cms/aist/npf/seminar/2019-2/

【お問い合せ】

tia-npf-school2(at)aist.go.jp(*(at)をアットマークに変更してからご使用ください)

添付ファイル

EBセミナーflyer.pdf