参画機関から

　筑波大学，物質・材料研究機構，東京工業大学，産業技術総合研究所は，文部科学省委託事業である「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として「電子ビームリソグラフィセミナーV」を筑波大学東京キャンパスにて開催いたします．電子ビームリソグラフィー技術に関わる最新レジストプロセスからデータ補正技術，微細パターン形成の露光事例について紹介いたします．また，各セッションの終わりにオーサーズ・インタビューの時間を設けました．普段質問しづらいことを，この機会に是非，講師の先生方に個別にご質問ください．
　産学官にかかわらず，多くの皆様のご参加をお待ちしています．

【日時】2019年11月27日（水）12:55～16:35
【場所】筑波大学東京キャンパス文京校舎　119号教室（丸ノ内線茗荷谷駅）
http://www.tsukuba.ac.jp/access/bunkyo_access.html

【主催】産業技術総合研究所ナノプロセシング施設（NPF）
　　　　物質材料研究機構微細加工プラットフォーム
　　　　筑波大学微細加工プラットフォーム
　　　　東京工業大学　科学技術創成研究院未来産業技術研究所

【講演プログラム】
12:55-13:00　はじめに　産業技術総合研究所　多田 哲也
13:00-13:40 『新規レジスト材料開発のための設計戦略』
　　　　　　　　　　大阪大学産業科学研究所¹，日本ゼオン株式会社²
　　　　　　　　　　中島 綾子¹，星野 学²，橋本 昌和²，古澤 孝弘¹
13:40-14:20 『光集積回路作製を目的とした厚膜レジストへの電子ビーム露光近接効果補正技術』
　　　　　　　　　　東京工業大学　西山 伸彦　
14:20-14:50 『レジスト現像シミュレーションから見る電子ビーム近接効果とその補正』
　　　　　　　　　　GenISys株式会社　清水 諭
14:50-15:05 休憩（オーサーズインタビュー）
15:05-15:35 『大面積偏向型超高速電子ビーム描画装置について』
　　　　　　　　　　株式会社エリオニクス　新関 嵩
15:35-15:55 『電子ビーム露光装置を用いたGa2O3 FinFETとAlN光導波路の作製』
　　　　　　　　　　筑波大学　奥村 宏典
15:55-16:15 『電子ビーム描画条件最適化のための実験的検証』
　　　　　　　　　　物質・材料開発機構　NIMS微細加工プラットフォーム　大里 啓孝
16:15-16:35 『ポジ・ネガ反転パターン形成のためのDDRプロセス』
　　　　　　　　　　産総研　ナノプロセシング施設　郭 哲維
17:00～18:30　意見交換会（無料）　　TAMAYA（筑波大学東京キャンパス正門前）

【参加費】無料
【定員】90名（先着順，参加登録をお願いします）
【申込期間】令和元年11月26日（火）17時迄

【お問い合せ】
tia-npf-school2(at)aist.go.jp（*(at)をアットマークに変更してからご使用ください）