参画機関から

微細加工 筑波大学,物質・材料研究機構,東京工業大学,東京大学,東北大学,産業技術総合研究所

電子ビームリソグラフィセミナーⅥ(オンライン)~電子ビーム露光とレーザービーム描画によるグレースケール露光~(2月24日)開催のお知らせ

 筑波大学,物質・材料研究機構,東京工業大学,東京大学,東北大学,産業技術総合研究所は,文部科学省委託事業である「ナノテクノロジープラットフォーム事業」の一環として,「電子ビーム露光とレーザービーム描画によるグレースケール露光」というテーマで2021年2月24日(水)オンラインセミナーを開催します.
 前半は電子ビーム露光技術とそのアプリケーション事例について,後半はレーザービーム描画によるグレースケール3D露光技術について紹介いたします.
 産学官いずれのご所属の方にも奮ってのご参加をお待ちしています.

【日時】2021年2月24日(水)12:55~16:10
【場所】Teamsによるオンライン開催

【主催】産業技術総合研究所TIA推進センター ナノプロセシング施設(NPF)
    物質材料研究機構微細加工プラットフォーム
    筑波大学微細加工プラットフォーム
    東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
    東京大学大学院システム・デザイン研究センター(d.lab)
    東北大学マイクロシステム融合研究開発センター
【協賛】ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会(TSC)

【講演プログラム】
12:55-13:00 はじめに      産業技術総合研究所 多田 哲也
13:00-13:40 『フルEB露光で作製するInGaAs ナノシートMOSFET』
       東京工業大学 宮本 恭幸           
13:40-14:10 『電子ビーム露光における近接効果』  
       産業技術総合研究所 有本 宏
14:10-14:40 『加速電圧によるコントラストカーブに基づいた描画結果と
       三次元形状の高スループットプロセスについて』
       株式会社エリオニクス 三浦 大三朗

14:40-14:50 休憩

14:50-15:20 『レーザー露光装置による3D・2Dグレースケール露光のための
       データ補正とシミュレーション』
       GenISys 株式会社 清水 諭
15:20-15:50 『レーザー露光装置とEB露光装置を使った3次元パターニング技術』
       Bush Clover 株式会社 新関 嵩
15:50-15:55 『東京大学の微細加工プラットフォーム施設の紹介』
       東京大学 藤原 誠
15:55-16:00 『東北大学マイクロシステム融合研究開発センター試作コインランドリの紹介』
       東北大学 辺見 政浩
16:00-16:05 『物質・材料研究機構 微細加工プラットフォームの紹介』
       物質・材料研究機構 津谷 大樹
16:05-16:10 『筑波大学 微細加工プラットフォームの紹介』
       筑波大学 末益 崇

【参加費】無料
【定員】90名(先着順,参加登録をお願いします)
【申込期間】令和3年2月19日(金)17時迄

【セミナー案内/申し込み】https://www.tia-kyoyo.jp/npf/seminar/2020-1/book/index.html

【お問い合せ】
国立研究開発法人産業技術総合研究所 TIA推進センター
共用施設運営ユニット 共用施設ステーション ナノプロセシング施設
電子メールアドレス:tia-npf-school1(at)aist.go.jp
※(at)をアットマークに変更してからご使用ください