参画機関から

微細加工 微細加工プラットフォーム 微細加工ナノプラットフォームコンソーシアム

「微細加工技術 実践セミナー」~オンライン技術セミナー & 実習コースで微細加工の基礎と共用施設・技術の活用を学ぶ~【実習コース説明会(7/28)および実習(9月~1月)】開催のお知らせ

 微細加工プラットフォーム(代表機関:京都大学)では,今年度も「微細加工プロセス技術セミナー」にて,実習コース説明会(7月28日)がオンラインで,また,実習(9月~1月)が全国各拠点で実施されます.現在,参加募集中です.ご参加をお待ちしております.

【主催】微細加工ナノプラットフォームコンソーシアム

 実習コース説明会
●日 時:2021年7月28日(水)14:30~16:50
●開催場所:Zoomによるオンライン説明会
●参加費:無料
●参加申し込み:下記URLより事前登録してください.開催前日にZoom説明会の招待メールをお送りします.
 URL:https://nsn.kyoto-u.ac.jp/p/seminar2021-2-1.html
●申込期限:2021年7月26日(月)

●プログラム
14:30 微細加工PFの紹介 及び 実習コースの概要説明

(1)基礎的な微細加工プロセス実習コース
 14:40 ①多目的i線ステッパ,コータデベロッパによる微細パターン形成(東北大学)
 14:50 ②電子線露光プロセス実習(東京工業大学)
 15:00 ③マスクレス露光によるフォトリソグラフィー(名古屋大学)
 15:10 ④マイクロ流路の作製(京都大学)
 15:20 ⑤エリプソメータによる膜厚測定(山口大学)

 <休憩・質問など>

(2)(希望者にカスタマイズした)アドバンス実習コース
 15:40 ⑥原子層堆積(ALD)装置による薄膜形成実習(北海道大学)
 15:50 ⑦電子ビーム描画の基礎と実践(筑波大学)
 16:00 ⑧Character Projection を使った電子線描画技術の実習(東京大学)
 16:10 ⑨静電容量型加速度センサーの設計から試作・評価(京都大学)
 16:20 ⑩マイクロ流路デバイスの設計・製作・評価(香川大学)
 16:30 ⑪SiC SBDの試作とパワー半導体デバイスの測定(広島大学)

16:40 全体質疑



 実習プログラム
●参加申し込み:下記URLより事前登録してください.参加される実習コースが決定しましたら,ご連絡を差し上げます.
 URL:https://nsn.kyoto-u.ac.jp/p/seminar2021-2-2.html
●申込期限:2021年8月27日(金)

<基礎的な微細加工プロセス実習(無料)>
①多目的i線ステッパコータデベロッパによる微細パターン形成
i線ステッパ・コータデベロッパ概要露光手順レチクルレイアウトの説明(1時間程度の座学)レジスト塗布露光現像観察を行います.1st露光のほかアライメントを伴う2nd露光も実施します.
 日程:1日コース(10時~17時を予定:日程は受講者と調整)
 定員:5名
 実施場所:東北大学 西澤潤一記念研究センター(宮城県仙台市)

②電子線露光プロセス実習
電子線露光装置を用いた微細パターンの露光プロセス実習を行います.レジスト塗布電子線による露光現像及び露光パターンのSEM観察等基本的な露光プロセスを実習します.
 日程:1日コース(11月実施:日程は受講者と調整)
 定員:2名
 実施場所:東京工業大学 大岡山キャンパス(東京都目黒区)

③マスクレス露光によるフォトリソグラフィー
マスクレス露光装置を用いて任意パターンを露光しパターン形成を行うとともに,マーク検出による重ね合せ露光を行います.
 日程:1日コース(日程は希望者と調整)
 定員:3名
 実施場所:名古屋大学 東山キャンパス ベンチャービジネスラボラトリー(名古屋市)

④マイクロ流路の作製
参加者自らがマイクロ流路の設計を行った後レーザー描画装置両面マスクアライナー等を利用して2液混合用PDMS流路を作製します.作製した流路に2液を流し混合状態を観察します.
 日程:3日コース(日程は受講者と調整)
 定員:3名
 実施場所:京都大学 吉田キャンパス ナノテクノロジーハブ拠点(京都市)

⑤エリプソメータによる膜厚測定
エリプソメータ(分光型)を用いて膜厚のほか光学定数の測定について基礎から応用まで習得するため本学の装置を使用した測定実習を行い解析の技術を習得します.
 日程:2日コース(10月4日~10月29日(うち金曜日を除く連続2日間で受講者と調整))
 定員:2名
 実施場所:山口大学 工学部(山口県宇部市)

<アドバンス実習(有料)>
⑥原子層堆積(ALD)装置による薄膜形成実習
ALD装置によるアルミナあるいはチタニアの成膜についてプロセス条件設定や装置の取り扱いについての実習を行います.実習はユーザーが希望する基板・材料(粉末も可)への成膜を行います.
 日程:2日コース(日程は受講者と調整)
 定員:2名
 参加費:44,000円
 実施場所:北海道大学 創成研究棟(札幌市)

⑦電子ビーム描画の基礎と実践
これから電子ビーム描画を始めてみたい方を対象として電子ビーム描画の基本を習得します.電子ビーム描画装置はELIONIX ELS7500EXを用います.サブミクロンのレジストパターン(電子デバイス等)を容易に形成することができます.
 日程:2日コース(応相談)(日程は受講者と調整)
 定員:3名
 参加費:3~4万円程度
 実施場所:筑波大学第三エリア 共同研究棟C1階(茨城県つくば市)

⑧Character Projectionを使った電子線描画技術の実習
電子線描画機の方式にはポイントビーム可変整形ビームCharacter Projection(CP)等があります.この内のCPを用いて構造色のパターンを作りエッチングSEM観察の後光学顕微鏡で透過光を確認します.
 日程:1日コース(9時~17時半を予定:8-12月の間で受講者と調整)
 定員:講習は一人一日づつ.3名まで
 参加費:約6万円
 実施場所:東京大学 武田スーパー・クリーン・ルーム(東京都文京区)

⑨静電容量型加速度センサーの設計から試作・評価
MEMS基礎から加速度センサーの基本動作原理について学習し受講者自身による設計製作評価実習を通して理解を深めます.実習の前にオンライン講義を実施します.(講義担当:京都大学工学研究科 土屋教授)
 日程:4日コース・講義:日程は受講者と調整・実習:11月15日(月)~17日(水)
 定員:4名
 実施場所:京都大学 吉田キャンパス ナノテクノロジーハブ拠点(京都市)

⑩マイクロ流路デバイスの設計・製作・評価
マイクロ流路デバイスに関する一連の工程として流路設計流体解析PDMSデバイス製作形状評価流体可視化実験画像解析について受講者と相談の上希望と経験に応じて内容を調整し実施します.
 日程:2日コース(日程は受講者と調整)
 定員:2名
 参加費:5万円
 実施場所:香川大学 創造工学部 フロム香川(香川県高松市)

⑪SiC SBDの試作とパワー半導体デバイスの測定
SiCショットキーバリアダイオード(SBD)の試作を行い1kVまでの耐圧測定等を行います.SiC SBD試作と測定の実際を学べます.遠隔講義・実習を予定しています.
 日程:2日コース(12月-1月の間で受講者と調整)
 定員:3名
 参加費:5万円(材料代込み)
 実施場所:広島大学(オンラインでのリモート実習)

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お問合せ先
 微細加工プラットフォーム・コーディネーター
  TEL: 075-753-5656
  Email: nanofab-coordinators(at)t.kyoto-u.ac.jp
  ※(at)をアットマークに変更してからご使用ください
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添付ファイル

フライヤー.pdf