参画機関から

微細加工 東京大学 東京大学

東京大学超微細リソグラフィ・ナノ計測拠点 セミナー「レーザー直接描画によるグレースケール露光 ~その実際と応用~」(7月28日)開催のお知らせ

【開催日時】2021年7月28日(水)9:30~12:00
【場所】Teams
【主催】東京大学 超微細リソグラフィ・ナノ計測拠点

【プログラム】
9:30 挨拶:
  東京大学超微細リソグラフィ・ナノ計測拠点 拠点長 准教授 三田 吉郎
9:35 基調講演:「グレースケール露光の概要と応用例」
  東北大学教授・マイクロシステム融合研究開発センター センター長 戸津 健太郎
10:20「HIMT製DWLシリーズによるグレースケール露光」
  ハイデルベルク・インストルメンツ(株) 上瀧 英郎
11:05 休憩
11:10「グレースケール露光のためのデータ補正とシミュレーション」
  GenISys(株) 清水 諭
11:55 フリートーク

【費用】無料
【言語】日本語
【資料】ダウンロード配付
【申込先URL】https://forms.gle/UCVUQGDG2WEJEfMc7
  ※締め切り:7月26日(月)12:00
  ※申し込みページはGoogleFormsを利用しております.上記のURLからお申込みください.
   セキュリティ等でGoogleFormsにアクセス出来ない場合は,メールにて以下の項目をご連絡ください.
   メール申込先:seminar-grayscale(at)if.t.u-tokyo.ac.jp
   メールのタイトル:7/28グレースケール露光セミナー申し込み
   -メールアドレス
   -お名前
   -所属大学・会社・機関名
   -大学院名・学部名・部署名
   -役職名
   -電話番号
   -ご興味のあるアプリケーション(例:マイクロオプティクス,マイクロ流路等)

  ※申し込み受付後,メールで接続先のURLをご連絡いたします.7月26日(月)までに接続先の連絡がない場合は,下記のメール申し込みアドレスまでご連絡ください.

【お問合せ先】
seminar-grayscale(at)if.t.u-tokyo.ac.jp ※(at)をアットマークに変更してからご使用ください.