参画機関から

微細加工 産業技術総合研究所,物質・材料研究機構,東京工業大学,北海道大学

マテリアル先端リサーチインフラ オンラインセミナー「原子層堆積技術(ALD)による成膜技術」(12月22日)開催のお知らせ

 産業技術総合研究所,物質・材料研究機構,東京工業大学,北海道大学は,令和3年度からスタートした文部科学省委託事業である「マテリアル先端リサーチインフラ事業」の一環として,『原子層堆積技術(ALD)による成膜技術術』というテーマで,オンラインによる技術セミナーを2021年12月22日(水)に開催します.
 ALDによる成膜アプリケーションと,サーマル/プラズマによる各ALD装置,及び様々なプリカーサー材料について紹介いたします.
 産学官いずれのご所属の方にも奮ってのご参加をお待ちしています.

【日時】2021年12月22日(水)12:55~17:30
【場所】Teamsによるオンライン開催

【主催】産業技術総合研究所TIA推進センター ナノプロセシング施設(NPF)
    物質材料研究機構微細加工プラットフォーム
    東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
    北海道大学電子科学研究所ナノテク連携推進室
【共催】ナノエレクトロニクス計測分析技術 研究会(TSC)

【プログラム】
12:55-13:00 はじめに
       産業技術総合研究所 多田 哲也
13:00-13:30 『ALDで絶縁膜を形成したMOSFETについて-III-V族系を中心として-』
       東京工業大学 後藤 高寛
13:30-13:50 『Super high-dielectric constant Al2O3/TiO2 nanolaminates
       deposited by the atomic layer deposition technique』
       物質・材料研究機構 劉 江偉(Jiangwei LIU)
13:50-14:00 『NIMS微細加工共用施設とALD装置のご紹介』 
       物質・材料研究機構微細加工PF 津谷 大樹
14:00-14:30 『ALD-酸化チタンを正極材料に用いた結晶シリコン太陽電池の開発』
       産業技術総合研究所 松井 卓矢
14:30-15:00 『Atomic Layer Deposition (ALD) overview and Introduction of Process Variety』
       (株)オックスフォードインスツルメント 伊藤 昌平
15:00-15:10 『NPFのALD成膜事例と関連する分析技術の紹介』
       産業技術総合研究所 NPF施設 有本 宏
15:10-15:20  休 憩
15:20-15:50 『サーマルALDプロセスの最適化』
       PICOSUN JAPAN(株) 佐藤 博
15:50-16:00 『北海道大学の成膜設備(ALD,PLD,スパッタ)紹介』
       北海道大学電子科学研究所ナノテク連携推進室 松尾 保孝
16:00-16:30 『独自のALD材料を用いた成膜プロセスのご紹介』
       株式会社ADEKA 西田 章浩
16:30-17:00 『半導体製造用ALD原料に関する研究開発』
       (株)トリケミカル研究所 徐 永華
17:00-17:30 『高純度オゾンを用いた低温ALDバッチプロセスの開発』
       明電ナノプロセス・イノベーション(株) 亀田 直人


【参加費】無料
【定員】100名(先着順,参加登録をお願いします)
【申込期間】2021年12月17日(金)17時迄
【セミナー案内/申し込み】https://www.tia-kyoyo.jp/npf/seminar/2021-1/

【お問い合せ】
産業技術総合研究所 TIA推進センター ナノプロセシング施設
電子メールアドレス:tia-npf-school1(at)aist.go.jp
※(at)をアットマークに変更してからご使用ください

添付ファイル

ALDセミナー.pdf