【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.22】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24OS0048
利用課題名 / Title
高屈折率ペースト作製過程における酸化ジルコニウムナノ粒子の分散状態の評価
利用した実施機関 / Support Institute
大阪大学 / Osaka Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
コンポジット材料/ Composite material,電子顕微鏡/ Electronic microscope,集束イオンビーム/ Focused ion beam
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
齊藤 丈靖
所属名 / Affiliation
大阪公立大学 工学研究科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators Excluding Supporters in the Hub and Spoke Institutes
右田 堅翔,YILIYA AISHAN,大山 崚介,片山 魁斗
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Supporters in the Hub and Spoke Institutes
佐藤 和久,高木 空
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術補助/Technical Assistance（副 / Sub）,機器利用/Equipment Utilization
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
酸化ジルコニウムナノ粒子の分散状態について、液状では動的光散乱法（DLS）を用いた粒度分布測定やパルスNMRによる評価を行っている。一方、製膜後の薄膜状態では，剛体振り子試験など、屈折計での屈折率およびUV-vis分光光度計による透過度の測定などを行っている。一連の物性と、TEM観察による評価を含めることで、系統的な評価ができるようにした。
実験 / Experimental
シリコン基板上に作成した酸化ジルコニウムナノ粒子含有樹脂薄膜にシリコン板を張り付け、厚みを確保し、カッターによる切断および研磨により、薄片化を行った。また粉砕観察及び、OS-006 ミクロトームを用いて薄片化を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
酸化ジルコニウムナノ粒子含有樹脂膜の観察のための試料作製を行った。
基板上薄膜の直接観察、粉砕観察、ミクロトームによる薄片化の三種類を行った。
粉砕観察による方法が最も簡便かつ実用性もあった。
今後は、粉砕観察をもとに、ミクロトームでの観察サンプルの種類を決定する。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
試料作製の際に貴重な技術的ご助力を賜りました。
大阪大学超高圧電子顕微鏡センター 佐藤和久様ならびに高木空様に、感謝を申し上げます。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 齊藤丈靖, 右田堅翔, 岡本尚樹,"高屈折率ペースト作製過程における 酸化ジルコニウムナノ粒子の分散状態評価"第31回エレクトロニクスにおけるマイクロ接合・実装技術シンポジウム,令和7年1月29日
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件