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大分類:リソグラフィ・露光・描画装置
研究機関:北九州産業学術推進機構
研究分野:微細加工

リソグラフィ・露光・描画装置

半導体デバイス等の製作において,微細デバイスや回路の設計パターンをチップ上に形成するために,半導体ウェハー上に塗布したレジスト膜に光によってパターンを焼きこむ描画工程がリソグラフィーであり,その光の露光方式が,パターン精度やスループットに対応して各種ある.また,最近は高価な露光装置を用いない印刷技術(ナノインプリント)や液滴吐出(インクジェット)による簡易な描画技術が開発されている.

該当する中分類件数:4件

光露光(マスクアライナ)

マスクアライナーとは紫外線を用いて試料に微細なパターンを転写・焼付する装置である.一般的にはレジストを塗った試料上にフォトマスクを配置させ,上から紫外線を照射する.露光方式には,密着露光,近接露光(以上コンタクト方式),レンズを用いた等倍投影露光,縮小投影露光方式がある.また,両面アライメント機能を持ったものもある.

光露光(ステッパ)

ステッパーは半導体素子製造に使われる縮小投影型露光装置で,マスクのパターンを投影レンズにより1/4から1/5に縮小してレジストを塗布したウエハ上に転写するに際して,転写の1ショットごとにウエハ上を移動して同一マスクパターンを同じウエハ上に多数転写する方式である.

電子線描画(EB)

電子線描画は,電子銃から発せられた電子線を電子レンズや,偏向器などを通し,微細に制御されるX-Y-Zステージ上の試料に照射して目的のパターンを描画する.ビーム径はnmオーダーであり,数十nm~数nmの微細パターン描画が可能である.可変整形ビーム型では電子ビームを途中のアパーチャーで矩形にして,照射ビーム断面積を大きくして,描画速度を高めている.電子線露光装置は露光用マスク(レチクル)の作製に使われるが,研究開発用や少量生産用のデバイスの直接描画に適している.

レジスト塗布・現像装置

ホトリソグラフィーにおいて露光前にウェハにレジストを塗布する方法として一般にスピンコートを行う.平坦面に均一にレジスト薄膜を形成するために,ウェーハ上にホトレジスト液を一定量滴下し,ウェーハを高速回転し,遠心力によって塗布する.なお,表面に凹凸がある場合はこの方式は適用できず,スプレー方式でレジストを塗布する.露光後,現像プロセスを経て,パターンを形成する.