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大分類:リソグラフィ・露光・描画装置
研究機関:分子科学研究所
研究分野:分子・物質合成

リソグラフィ・露光・描画装置

半導体デバイス等の製作において,微細デバイスや回路の設計パターンをチップ上に形成するために,半導体ウェハー上に塗布したレジスト膜に光によってパターンを焼きこむ描画工程がリソグラフィーであり,その光の露光方式が,パターン精度やスループットに対応して各種ある.また,最近は高価な露光装置を用いない印刷技術(ナノインプリント)や液滴吐出(インクジェット)による簡易な描画技術が開発されている.

該当する中分類件数:1件

光露光(マスクレス、直接描画)

マスクレス露光装置は,PC上で作画した任意のパターンデータを,フォトマスクを用いることなく直接基板上のフォトレジストに転写できる露光装置である.He-Cdレーザー(λ=442nm)などの光源を用い,最少描画パターン1μm程度を実現している.マスクを作る必要がないので,研究開発試作や少量カスタム生産に適している.MEMSデバイス パターンの直接描画や,露光用マスクパターン作製に使用されている.