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ナノテクジャパンは、文部科学省「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として、全国の産学官の利用者に対して、
最先端研究施設及び研究支援能力を分野横断的にかつ最適な組合せで提供できる共用システムを構築し、研究課題解決への貢献を目指して活動しております。
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文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ！ 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます．
中分類検索結果
大分類：合成、熱処理、ドーピング
研究機関：広島大学
研究分野：微細加工
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合成、熱処理、ドーピング材料の性質を目的に合わせて変化させる手段として，結晶材料の合成，熱処理による変質，イオンのドーピングなどがある．材料の合成ではカーボンナノチューブ（CNT），グラフェン，ダイヤモンドなどの結晶成長が行われ，熱処理では酸化，不純物元素の拡散，アニールなど多くの用途がある．不純物元素のドーピングにはイオン注入装置が広く使われている． |
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該当する中分類件数:2件
- 酸化、拡散、イオン注入
酸化，不純物熱拡散，アニール，シンタリング等の用途の加熱炉がある．1000℃前後まで加熱ができ，利用できるウエハ径は2～4インチが多いが8インチもある．イオン注入装置は，加速電圧30～200keVで，中電流まである．B, P, As, Nなどの元素が注入出来る．
- 熱処理、レーザーアニール
熱処理装置では温度範囲400℃～1200℃，急速加熱（200℃/sec）などの装置があり，またレーザーアニールではKrFレーザーのマスクパターン縮小投影による局所表面のアニーリングを行うことが出来る装置がある．
