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ナノテクジャパンは、文部科学省「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として、全国の産学官の利用者に対して、
最先端研究施設及び研究支援能力を分野横断的にかつ最適な組合せで提供できる共用システムを構築し、研究課題解決への貢献を目指して活動しております。

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文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ！　研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名	ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID	A-UT-065
分類	試料作製装置＞集束イオンビーム(FIB) 膜加工・エッチング＞集束イオンビーム加工
設備名	透過型電子顕微鏡試料イオンビーム加工設備(FIB)JIB-4600F(日本電子) (Ion Beam Processing System for TEM Sample JIB-4600F(JEOL))
地域	関東
設置機関	東京大学
研究分野	微細構造解析
担当部署または担当者
仕様	□ 特長高分解能 FE-SEM を搭載し、ピンポイントでの断面作製が可能高分解能 SEM で FIB 加工状況をリアルタイムにモニタ可能インレンズサーマル電子銃を搭載し、最大 200nA の大電流による安定した高速分析が可能 □ 主な仕様 FIB（収束イオンビーム）イオン源：Ga液体金属イオン源加速電圧：1～30kV 倍率：×30（視野探し）、×100～×300,000 イオンビーム加工形状：矩形、ライン、スポット SEM（電子ビーム）加速電圧：0.2～30kV 倍率：×20～×1,000,000 像分解能：1.2nm（加速電圧30kV）、3.0nm（加速電圧1kV）

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