A-UT-065:透過型電子顕微鏡試料イオンビーム加工設備(FIB)JIB-4600F(日本電子) | ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内 / NanotechJapan YellowPages

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研究設備詳細情報

事業名	ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID	A-UT-065
分類	試料作製装置＞集束イオンビーム(FIB) 膜加工・エッチング＞集束イオンビーム加工
設備名	透過型電子顕微鏡試料イオンビーム加工設備(FIB)JIB-4600F(日本電子) (Ion Beam Processing System for TEM Sample JIB-4600F(JEOL))
地域	関東
設置機関	東京大学
研究分野	微細構造解析
担当部署または担当者
仕様	□ 特長高分解能 FE-SEM を搭載し、ピンポイントでの断面作製が可能高分解能 SEM で FIB 加工状況をリアルタイムにモニタ可能インレンズサーマル電子銃を搭載し、最大 200nA の大電流による安定した高速分析が可能 □ 主な仕様 FIB（収束イオンビーム）イオン源：Ga液体金属イオン源加速電圧：1～30kV 倍率：×30（視野探し）、×100～×300,000 イオンビーム加工形状：矩形、ライン、スポット SEM（電子ビーム）加速電圧：0.2～30kV 倍率：×20～×1,000,000 像分解能：1.2nm（加速電圧30kV）、3.0nm（加速電圧1kV）

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