文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-141
分類 形状・形態観察、分析 > 膜厚・段差・粗さ測定
その他材料評価 > 膜厚測定装置(エリプソメーター)
設備名 単波長エリプソメータ
(Single Wavelength Ellipsometer)
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

主に薄膜の膜厚や光学定数の測定に利用する装置です。サンプル表面に光を入射させ、その反射光の偏光状態を計測することにより膜厚や光学定数の算出を行います。代表的な利用方法はシリコンウエハ上に成膜したSiO2膜の膜厚測定で、非破壊・非接触で比較的簡便に膜厚(SiO2膜が透明で光吸収が無いと仮定した場合)を計測することが可能です。

  • 型式:DHA-XA2M
  • 光源:He-Neレーザ(632.8nm)、LD830(830nm)
  • ステージサイズ:4インチウエハ(直径100mm)
  • 入射角度:55°~75°

 

F-AT-141

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