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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-142
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > レジスト塗布・現像装置
設備名 高圧ジェットリフトオフ装置
(High Pressure Jet Lift-off Equipment)
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

加温したN-メチル-2-ピロリドン溶液(NMP)による膨潤工程、常温NMPによる高圧ジェット剥離工程、2-プロパノール溶液(IPA)および純水によるリンス工程、窒素ブローおよび高速スピンによる乾燥工程等の一連の工程が自動処理できる自動リフトオフ装置である。

  • 型番:KLO-150CBU
  • 試料サイズ:小片20mm□~最大φ150mmウエハ
  • 回転数:0~2000rpm
  • NMP処理温度:80℃

 

F-AT-142

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