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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-144
分類 成膜・膜堆積 ＞ 原子層堆積(ALD)
設備名 原子層堆積装置〔AD-100LP〕
(Atomic Layer Deposition〔AD-100LP〕)
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

放電形式に誘導結合(Inductively Coupled Plasma:ICP)方式を採用した原子層堆積装置です。本装置は、リモートプラズマもしくはダイレクトプラズマの選択が可能となっており状況に合わせて選択できます。プリカーサは、TMA,BDEAS,H2Oを用意しており、AlもしくはSiの酸化物もしくは窒化物の成膜が可能です。

●型式: AD100-LP (サムコ株式会社)
●ステージ温度：50 ～ 500℃
●放電方式: 誘導結合式プラズマ(ICP)　
●試料サイズ: 4インチウェハまで対応（2インチは3枚まで可能）
●試料導入方式: ロードロック式
●ICP高周波電源: 最大300W、13.56MHz
●キャリアガス：N2
●使用ガス: O2、N2、NH3、H2、Ar
F-AT-144

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