ナノテクジャパンは、文部科学省「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として、全国の産学官の利用者に対して、
最先端研究施設及び研究支援能力を分野横断的にかつ最適な組合せで提供できる共用システムを構築し、研究課題解決への貢献を目指して活動しております。
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文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。
事業名 | ナノテクノロジープラットフォーム |
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機器ID | F-AT-145 |
分類 |
成膜・膜堆積 > スパッタリング 膜加工・エッチング > ドライエッチング(ECR) |
設備名 | ECRスパッタ成膜・ミリング装置 (ECR sputter deposition and milling system) |
地域 | 関東 |
設置機関 | 産業技術総合研究所 |
研究分野 | 微細加工 |
担当部署または担当者 | 共用施設ステーション |
仕様 |
ECRイオンソースで発生させたArイオンビームで、スパッタ成膜とイオンエッチングを行うことを目的とした装置です。同一試料に対して成膜とエッチングを途中で真空を破らずに連続して行えることを特徴としています。 ●型式:EIS-200ERP |
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