文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NM-100
分類 成膜・膜堆積 > 蒸着(抵抗加熱、電子線)
膜加工・エッチング > ウエット/ガスエッチング,洗浄
設備名 高圧ジェットリフトオフ装置
(Lift-off System)
地域 関東
設置機関 物質・材料研究機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

メーカー名:カナメックス
型番:KLO-150CBU
用途:リフトオフ、レジスト剥離 

装置仕様
レジスト膨潤:80℃ NMP溶液
レジスト剥離:高圧ジェットNMP溶液
リンス:IPA, 純水
乾燥:スピン乾燥、N2ブロー
試料サイズ:最大φ6インチ

F-NM-100

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