文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NM-104
分類 形状・形態観察、分析 > 膜厚・段差・粗さ測定
機械計測 > 振動・変形測定
成膜・膜堆積 > スパッタリング
その他 > その他
設備名 薄膜応力測定装置
(Thin film stress measurement system)
地域 関東
設置機関 物質・材料研究機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

メーカー名:東朋テクノロジー
型番:FLX-2000-A
用途:薄膜応力測定 

装置仕様
測定方式:レーザースキャン方式(670nm&750nm半導体レーザー)
測定範囲:1~4000MPa
測定再現性:1.3MPa(1σ)
試料サイズ:φ3インチ, φ6インチ, φ8インチ
その他:3Dマッピング機能

 

F-NM-104

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