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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NM-106
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(RIE)
設備名 ICP原子層エッチング装置
(ICP Atomic Layer Etching System)
地域 関東
設置機関 物質・材料研究機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

メーカー:Oxford Instruments
型番:PlasmaPro 100 Cobra 300 ALE

プラズマ励起方式:誘導結合型
電源出力:ICP出力 最大3kW/バイアス出力 最大300W
プロセスガス:CL2, BCL3, SF6, Ar, N2, O2
試料ステージ温度:-30~80℃
試料サイズ:最大φ6インチ(オプションで8インチ可)
その他:ICPエッチング加工、ALEプロセス、終点検出機能装備

F-NM-106

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